[发明专利]层叠体

说明书

技术领域

提供氧、水蒸气阻隔性优异的层叠体。

背景技术

近年来，隔绝氧、水蒸气等气体的透明气体阻隔材料不仅用于一直以来的主要用途即食品、医药品等的包装材料用途，而且也逐渐用于液晶显示器这样的平板显示器(FPD)、太阳能电池用的构件(基板、背板等)、有机电致发光(有机EL)元件用的柔性基板、密封膜等电子构件。在这些用途中，要求非常高的气体阻隔性。

目前，对于已在一部分的用途中采用的透明气体阻隔材料而言，有利用蒸镀法、等离子体CVD法、溅射法、离子镀法、催化剂CVD法这样的干法工艺，将显示气体阻隔性的硅、铝的氧化物、氮化物、及它们的混合物堆积到塑料基材上的方法。然而，干法工艺中，有时部分地形成未堆积的部分(针孔)这样的微小缺陷，损害气体阻隔性。

作为其解决办法，提出了在利用干法工艺制作的硅、铝的氧化物、氮化物、及它们的混合物层上涂布以水溶性高分子、和含有(a)1种以上的醇盐或/及其水解物或(b)氯化锡的至少任一种的水溶液、或水/醇混合溶液为主剂的涂覆剂而得到的层叠膜(专利文献1)，或涂覆不饱和羧酸金属盐的聚合物层(专利文献2)这样的与有机层的层叠化，报道了1个量级左右的阻隔性提升。然而，在要求高度的气体阻隔性能的电子构件用途中，阻隔性能依然不充分。

现有技术文献

专利文献

[专利文献1]日本特开平6－316025号公报

[专利文献2]日本特开2010－42574号公报

[专利文献3]国际公开2011/7543号小册子

发明内容

[发明所要解决的课题]

本发明的目的在于提供具有能用于电子构件的充分的气体阻隔性能的层叠体。

[用于解决课题的手段]

本发明人等进行了深入研究，结果发现，通过将在规定的条件下向聚硅氮烷膜照射等离子体等能量射线而得到的含硅层、和由有机酸金属盐得到的聚合物层层叠，能得到针孔等缺陷少、具有充分的氧气阻隔性能及水蒸气阻隔性能、而且耐弯屈性优异的层叠体。

即，本发明可如下所示。

[1]一种层叠体，其包括基材(A)、在上述基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C)，

上述含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域，

上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5％以下及/或室温23℃下的相对湿度为30％以下的条件下，对在上述基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射，将该膜的至少一部分改性而形成的。

[2][1]所述的层叠体，其中，上述氮高浓度区域的利用X射线光电子能谱法测得的下式(1)表示的氮原子的组成比为0.01以上、1以下的范围。

式(1)：氮原子的组成比/(氧原子的组成比+氮原子的组成比)

[3][1]或[2]所述的层叠体，其中，上述聚硅氮烷膜是通过利用选自棒式涂布法、辊式涂布法、凹版涂布法、喷雾涂布法、气刀涂布法、旋转涂布法、浸渍涂布法中的方法将含有聚硅氮烷的溶液涂布到上述基材(A)上而形成的。

[4][1]～[3]中任一项所述的层叠体，其中，上述聚合物层(C)是在形成于上述基材(A)上的具有氮高浓度区域的上述含硅层(B)上形成上述具有聚合性基团的有机酸金属盐膜，利用紫外线、电子束或热将上述有机酸金属盐膜聚合而得到的。

[5][1]～[4]中任一项所述的层叠体，其中，上述能量射线照射是通过等离子体照射进行的。

[6][5]所述的层叠体，其中，上述等离子体照射是在选自非活性气体、稀有气体或还原气体中的气氛下进行的。

[7][5]或[6]所述的层叠体，其中，上述等离子体照射是在氧浓度为5000ppm以下、且水蒸气浓度为8400ppm以下的条件下进行的。

[8][1]～[7]中任一项所述的层叠体，其中，上述聚硅氮烷膜是选自全氢聚硅氮烷、有机聚硅氮烷、及它们的衍生物中的1种以上。

[9][1]～[8]中任一项所述的层叠体，其中，上述有机酸金属盐是选自羧酸、磺酸、巯基酸中的1种以上的有机酸的金属盐。

[10][1]～[9]中任一项所述的层叠体，其中，上述聚合性基团是选自乙烯基、环氧基、巯基、脲基、硫醚基、异氰酸酯基、氨基、羟基、卤素原子、噁唑啉基、碳二亚胺基或它们的衍生物中的1种以上的聚合性基团。