[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基体的研磨方法及基体有效

专利信息
申请号: 201380026779.8 申请日: 2013-03-26
公开(公告)号: CN104335331A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 岩野友洋;南久贵;阿久津利明;藤崎耕司 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;B24B37/00;C09K3/14
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 杜娟
地址: 日本国东京都千*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 悬浮液 研磨 液套剂 基体 方法
【权利要求书】:

1.一种悬浮液,其含有磨粒和水,所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物,并且,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上,并且,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长500nm的光的透光率在50%/cm以上,

将所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液的NO3-浓度,与将该水分散液以60℃保持72小时后的NO3-浓度的差为200ppm以下。

2.根据权利要求1所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.50以上。

3.根据权利要求1所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上、小于1.50。

4.根据权利要求1~3中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在95%/cm以上。

5.根据权利要求1~4中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至0.0065质量%的水分散液中,使该水分散液对波长290nm的光的吸光度为1.000以上。

6.根据权利要求1~5中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至0.0065质量%的水分散液中,使该水分散液对波长450~600nm的光的吸光度为0.010以下。

7.根据权利要求1~6中任意一项所述的悬浮液,其中,所述磨粒的含量以悬浮液总质量为基准在0.01质量%以上。

8.根据权利要求1~7中任意一项所述的悬浮液,其中,所述4价金属元素的氢氧化物是由4价金属元素盐与碱源进行反应所得。

9.根据权利要求1~8中任意一项所述的悬浮液,其中,所述4价金属元素是4价铈。

10.一种研磨液套剂,其中,以第1液体和第2液体混合而形成研磨液的方式该研磨液的构成成分被分为第1液体和第2液体分别保存,所述第1液体是权利要求1~9中任意一项记载的悬浮液,所述第2液体含有添加剂和水。

11.根据权利要求10所述的研磨液套剂,其中,所述添加剂是从由乙烯醇聚合物以及该乙烯醇聚合物的衍生物组成的组中所选出的至少1种。

12.根据权利要求10或11所述的研磨液套剂,其中,所述添加剂的含量以研磨液总质量为基准在0.01质量%以上。

13.一种研磨液,含有磨粒、添加剂和水,其中,所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物,并且,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上,并且,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,所述磨粒使该水分散液对波长500nm的光的透光率在50%/cm以上,

将所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液的NO3-浓度,与将该水分散液以60℃保持72小时后的NO3-浓度的差为200ppm以下。

14.根据权利要求13所述的研磨液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.50以上。

15.根据权利要求13所述的研磨液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上、小于1.50。

16.根据权利要求13~15中任意一项所述的研磨液,其中,所述磨粒,在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中,使该水分散液对波长500nm的光的透光率在95%/cm以上。

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