[发明专利]用于有机电子器件的基板

权利要求书

1.一种有机电子设备，其特征在于，

所述有机电子设备包括：

基础层；

光学功能层，其在所述基础层上形成，并具有与所述基础层相比小的投影面积；

电极层，其具有与所述光学功能层相比大的投影面积，并且均形成在所述光学功能层的上方及未形成有所述光学功能层的基础层的上方；

导电物质，其在所述电极层上形成，并与形成在所述光学功能层的上方的电极层和形成在未形成有所述光学功能层的基础层的上方的电极层电连接，

有机层，其在所述电极层上形成，并包括发光层，其中所述光学功能层的投影面积对应于或大于发光层的发光区域；

第二电极层，其在所述有机层上形成；和

用于保护有机层和第二电极层的封装结构，所述封装结构粘附于在下方未形成有光散射层的电极层的上方，

其中，

对于在未形成有所述光学功能层的基础层的上方形成的电极层，根据ASTM D3363，以500g的铅笔荷重和250mm/min的铅笔移动速度测量的铅笔硬度为6H以上。

2.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

对于在光学功能层上形成的电极层，根据ASTM D3363，以500g的铅笔荷重和250mm/min的铅笔移动速度测量的铅笔硬度在2B-5H的范围。

3.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述电极层的投影面积(A)与所述光学功能层的投影面积(B)之比值(A/B)为1.04以上。

4.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述光学功能层由所述基础层、所述电极层、及所述导电物质密封。

5.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述基础层为透明的。

6.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述基础层是玻璃基础层。

7.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述电极层为空穴注入电极层或电子注入电极层。

8.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述光学功能层是光散射层。

9.根据权利要求8所述的有机电子设备，其特征在于，

所述光散射层包括基体材料和光散射颗粒，所述光散射颗粒的折射率与基体材料的折射率不同。

10.根据权利要求9所述的有机电子设备，其特征在于，

所述基体材料包括聚硅氧烷、聚酰胺酸或聚酰亚胺。

11.根据权利要求9所述的有机电子设备，其特征在于，

所述光散射颗粒的折射率为1.0-3.5。

12.根据权利要求8所述的有机电子设备，其特征在于，

所述光散射层为具有凹-凸结构的层。

13.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述光学功能层包括光散射层及在所述光散射层的上方形成的平整层。

14.根据权利要求13所述的有机电子设备，其特征在于，

所述平整层的折射率为1.7以上。

15.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述光学功能层的形成区域的长度(B)与所述发光层的发光区域的长度(C)之差(B-C)在10μm至2mm的范围内。

16.根据权利要求1所述的有机电子设备，其特征在于，

所述封装结构为玻璃罐或金属罐。