[发明专利]在应用多区气体供给装置的等离子体处理室中的共用气体面板

权利要求书

1.一种用于将工艺气体提供至等离子体处理系统的多个多区气体供给室的气体供给输送装置，包括：

多个气体供给管道；

被连接以接纳来自所述多个气体供给管道的不同气体的共用气体面板，所述共用气体面板将所述不同气体加以混合以形成混合气体并且将所述混合气体均等地分开以便将所述混合气体的一部分提供至所述多个多区气体供给室的每个室；

包括连接到所述共用气体面板的下游的至少两个多区气体输入装置的多个多区气体供给装置，所述多个多区气体供给装置中的每个构造成可调节地将从所述共用气体面板被所述多个多区域气体输送装置中的每个所接纳的所述混合气体的所述部分分成指定用于所述多个多区气体供给室的多区气体供给室的不同区域的多个气体区域流。

2.如权利要求1所述的气体供给输送装置，其中所述多个多区气体供给装置中的每个将所述混合气体的一部分提供至所述多个多区气体供给室的单个多区气体供给室。

3.如权利要求1所述的气体供给输送装置，其中所述多个多区气体供给室由两个多区气体供给室组成。

4.如权利要求1所述的气体供给输送装置，其中所述不同区域的第一区代表所述多个多区气体供给室的给定多区气体供给室的中心部，所述不同区域的第二区代表所述多个多区气体供给室的所述给定多区气体供给室的边缘部。

5.如权利要求1所述的气体供给输送装置，其中所述等离子体处理系统代表介电质等离子体蚀刻系统。

6.如权利要求1所述的气体供给输送装置，其中所述多个多区气体供给装置的第一多区气体供给装置包括具有不同孔径的多个孔口。

7.如权利要求6所述的气体供给输送装置，其中所述多个多区气体供给装置的所述第一多区气体供给装置还包括：连接到所述多个孔口的下游的多个输出阀、所述多个输出阀的单独输出阀的选择性组合，所述输出阀当打开时形成用于多区气体供给室的不同区域的不同流量比。

8.如权利要求1所述的气体供给输送装置，其中所述等离子体处理室代表电感耦合等离子体处理室。

9.如权利要求1所述的气体供给输送装置，其中所述等离子体处理室代表电容耦合等离子体处理室。

10.如权利要求1所述的气体供给输送装置，还包括：

至少第一阀，所述第一阀被设置在所述多个多区气体供给装置的第一多区气体供给装置与所述共用气体面板之间；

逻辑器件，所述逻辑器件是用于接收来自所述多个多区气体供给室的至少两个多区气体供给室的光发射谱信号并且用于将控制信号提供给所述第一阀。

11.如权利要求1所述的气体供给输送装置，还包括：

至少第一阀，所述第一阀被设置在所述多个多区气体供给装置的第一多区气体供给装置与所述多个气体供给室的多区气体供给室之间；

逻辑器件，所述逻辑器件是用于接收来自所述多个多区气体供给室的至少两个多区气体供给室的光发射谱并且用于将控制信号提供给所述第一阀。

12.一种用于将工艺气体提供至等离子体处理系统的多个多区气体供给室的方法，包括：

提供多个多区气体供给装置，所述多区气体供给装置包括至少两个多区气体供给装置；

使来自多个气体供给管道的不同气体流动到共用气体面板，所述共用气体面板将所述不同气体加以混合以形成混合气体并且将所述混合气体均等地分开以便将所述混合气体的一部分提供至所述多个多区气体供给装置的每个装置；

利用所述多区气体供给装置中的每个装置可调节地将所述混合气体的所述部分分成指定用于所述多个多区气体供给室的多区气体供给室的不同区域的多个气体区域流。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述多个多区气体供给装置中的每个装置将所述混合气体的一部分提供至所述多个多区气体供给室的单个多区气体供给室。

14.如权利要求12所述的方法，其中所述提供多个多区气体供给装置由提供两个多区气体供给装置组成。

15.如权利要求12所述的方法，其中所述不同区域的第一区代表所述多个多区气体供给室的给定多区气体供给室的中心部，所述不同区域的第二区代表所述多个多区气体供给室的所述给定多区气体供给室的边缘部。