[发明专利]灭菌处理装置及使用该装置的灭菌处理方法

权利要求书

1.一种灭菌处理装置，其特征在于，具备：

反应容器，收容灭菌处理对象物并实施灭菌处理；

试剂供给机构，向所述反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；

减压机构，对所述反应容器内进行减压；

换气机构，对所述反应容器内进行换气；

等离子体生成机构，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体；以及

控制机构，在利用所述试剂的灭菌处理后在所述反应容器内进行减压的过程中，以使所述规定部位保持在产生等离子体的状态下的方式控制所述减压机构和等离子体生成机构。

2.如权利要求1所述的灭菌处理装置，其特征在于，

还具备第二供给机构，在向所述反应容器内供给所述灭菌处理用试剂后，向所述反应容器内供给促进所述过氧化剂的分解的过氧分解剂或水。

3.如权利要求1或2所述的灭菌处理装置，其特征在于，

所述规定部位设定在所述反应容器内。

4.如权利要求1或2所述的灭菌处理装置，其特征在于，

所述规定部位设定在所述反应容器的外部。

5.如权利要求1或2所述的灭菌处理装置，其特征在于，

所述规定部位设定在所述反应容器的内部和外部这两方。

6.一种灭菌处理方法，其特征在于，具备：

处理对象物收容步骤，将灭菌处理对象物收容到灭菌处理用的反应容器内的规定收容位置；

试剂供给步骤，对所述反应容器内进行减压后，向该反应容器内供给至少含有过乙酸的过氧化剂作为灭菌处理用试剂；

等离子体生成步骤，在利用所述试剂的灭菌处理后，在从所述灭菌处理对象物在所述反应容器内的收容位置及其附近到装置的外部的流体路径的规定部位产生等离子体；

再减压步骤，在使所述规定部位保持在等离子体产生状态的条件下，再次对所述反应容器内进行减压；以及

换气步骤，在所述再减压步骤之后，对所述反应容器内进行换气。

7.如权利要求6所述的灭菌处理方法，其特征在于，

还具备如下步骤：在向所述反应容器内供给所述灭菌处理用试剂后，向所述反应容器内供给促进所述过氧化剂的分解的过氧分解剂或水。