[发明专利]具有涡流阻挡构件的水力旋流器

权利要求书

1.水力旋流器(10)，其包含筒体(12)，所述筒体包括流体入口(14)、过滤流体出口(16)、流出物出口(18)、工艺流体出口(20)和围绕轴(X)定位并且包围多个排列的腔室的内周壁(22)，所述筒体包括：

i)与流体入口(14)流体连通的涡流室(24)、位于涡流室(24)内并包围滤液室(46)的过滤器组件(26)、从流体入口(14)延伸并围绕过滤器组件(26)的流体处理通路(28)，所述流体处理通路适合于在过滤器组件(26)周围产生涡流流体流，其中滤液室(46)与过滤流体出口(16)流体连通，使得通过过滤器组件(26)的流体进入滤液室(46)并可通过过滤流体出口(16)离开筒体(12)，和

ii)与涡流室(24)流体连通并且适合于从其接收具有流体流动速度的未过滤流体的流出物分离室(30)，其中流出物分离室(30)与工艺流体出口(20)和流出物出口(18)流体连通，并且其中流出物分离室(30)适合于通过降低流体流动速度而增强颗粒的分离；

其中水力旋流器(10)还包括位于所述涡流室和流出物分离室(24，30)之间的涡流阻挡构件(34)，所述涡流阻挡构件适合于在流体从涡流室(24)流到流出物分离室(30)时干扰涡流流体流。

2.权利要求1的水力旋流器(10)，其中所述涡流阻挡构件(34)将在所述涡流室和流出物分离室(24，30)之间的大部分流体流引导到邻近于筒体(12)的内周壁(22)的位置。

3.权利要求1的水力旋流器(10)，其中所述涡流阻挡构件(34)包含延伸到邻近于筒体(12)的内周壁(22)的位置的外周缘(40)，并且还包含多个延伸穿过它的孔(42)。

4.权利要求1的水力旋流器(10)，其中所述涡流阻挡构件(34)包含延伸到筒体(12)的内周壁(22)的至少50mm以内的位置的外周缘(40)。

5.权利要求1的水力旋流器(10)，其中所述涡流阻挡构件(34)包含盘形构造。

6.权利要求1的水力旋流器(10)，其还包含位于流出物分离室(30)内在轴(X)附近的工艺流体入口(33)，其中所述工艺流体入口(33)与工艺流体出口(20)流体连通。

7.权利要求6的水力旋流器(10)，其还包含围绕工艺流体入口(33)同心布置的折流板(35)。

8.权利要求1的水力旋流器(10)，其中所述过滤器组件(26)包含对称位于轴(X)周围并且包围滤液室(46)的外膜表面(44)，所述滤液室与过滤流体出口(16)流体连通。

9.权利要求8的水力旋流器(10)，其还包含围绕所述膜表面(44)同心定位并可旋转地接合膜表面(44)的清洁组件(50)。

10.权利要求1的水力旋流器(10)，其中所述清洁组件(50)适合于由于流体沿着流体处理通路(28)流动而围绕过滤器组件(26)旋转。