[发明专利]用于测量光谱系统的性能的方法和设备

权利要求书

1.一种测量光谱系统的性能的方法，该方法包括：

a)针对将由所述光谱系统识别的一组成分中的每种成分获得多个成分光谱，所述成分光谱是针对影响该成分光谱的至少一个因素的变化获得的；

b)模拟样品光谱，每个样品光谱都是针对对应的潜在样品使用与用于模拟其他样品光谱的成分光谱不同的至少一个不同成分光谱和/或所述成分光谱中的至少一个成分光谱的不同量来模拟的；

c)对所述样品光谱进行分析，以针对每个样品光谱获得所述对应的潜在样品的特征的测量数量和/或性质；以及

d)基于所述测量数量和/或性质生成性能测量。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述分析包括对成分的存在和/或不存在进行定性。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述性能测量包括所述系统在识别和/或量化样品中的所述一组成分中的一种或多种成分时的灵敏度和/或特异性的测量和/或样品中的所述一组成分中的一种或多种成分的浓度限度，在所述浓度限度时能够实现用于识别和/或量化所述一组成分中的所述一种或多种成分的最小灵敏度水平。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中每个样品光谱都是针对所述对应的潜在样品的特征的指定数量和/或性质来模拟的，并且生成性能测量包括将所述测量数量和/或性质与用于每个样品光谱的指定数量或性质进行比较。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述分析包括使用用于每种成分的参考光谱对每个样品光谱进行分析以获得所述特征的所述测量数量和/或性质。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中通过根据实验设计进行实验来获得用于每种成分的所述多个成分光谱，其中被识别为影响所述一组成分中的一种或多种成分的光谱响应的因素在一定概率范围内变化。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中在步骤a)中针对每种成分得到的所述多个成分光谱在所述每种成分具有相同参考浓度的情况下获得。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中针对所述对应的潜在样品中的至少一个不同成分的不同浓度来模拟所述样品光谱。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中从适当的一组所述成分光谱中随机地选择用于模拟所述样品光谱的一个或多个成分光谱和/或参考光谱。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中基于至少一种概率分布随机地选择所述对应的潜在样品中的至少一个不同成分和/或所述对应的潜在样品中的至少一个不同成分的浓度。

11.根据权利要求5所述的方法，所述分析进一步包括选择用于所述一组成分中的每种成分的参考光谱，每个参考光谱是从用于该成分的多个成分光谱选择的并且与用来模拟使用该参考光谱分析的样品光谱的成分光谱不同。

12.根据权利要求11所述的方法，所述分析进一步包括选择不同的参考光谱用于不同的样品光谱的分析。

13.根据权利要求6所述的方法，其中所述因素包括操作者、样品准备与测量之间的时间、获得光谱的仪器、成分批次和试剂批次中的一种或多种。

14.一种设计光谱系统的方法，该方法包括使用根据权利要求1至10中任一项所述的方法测量所述光谱系统的性能并且基于性能测量来选择和/或修改所述光谱系统的规范。

15.一种根据权利要求14所述的方法设计的光谱系统。

16.一种用于测量光谱系统的性能的设备，该设备包括处理器，该处理器被设置成：

a)针对将由光谱系统识别的一组成分中的每种成分获得多个成分光谱，所述成分光谱是针对影响该成分光谱的至少一个因素的变化获得的；

b)模拟样品光谱，每个样品光谱都是针对对应的潜在样品使用与用于模拟其他样品光谱的成分光谱不同的至少一个不同成分光谱和/或所述成分光谱中的至少一个成分光谱的不同量来模拟的；

c)对所述样品光谱进行分析，以针对每个样品光谱获得所述对应的潜在样品的特征的测量数量和/或性质；以及

d)基于所述测量数量和/或性质生成性能测量。

17.一种测量光谱系统的性能的方法，该方法包括：

a)针对将由所述光谱系统识别的一组成分中的每种成分获得多个成分光谱，所述成分光谱是针对影响该成分光谱的至少一个因素的变化获得的；

b)使用所述成分光谱针对潜在样品模拟样品光谱；

c)使用从所述多个成分光谱选择的不同组的参考光谱对所述样品光谱进行多次分析，以利用每组参考光谱获得所述潜在样品的特征的测量数量和/或性质；以及

d)基于所述测量数量和/或性质生成性能测量。