[发明专利]用于沉积系统的气体注入部件及相关方法

权利要求书

1.一种用于化学沉积腔的气体注入器，该气体注入器包括：

底板；

中板，其被定位在所述底板的上方；以及

顶板，其在所述中板的与所述底板相反的那一侧被定位在所述中板的上方，其中所述底板、所述中板和所述顶板被构造成使净化用气体在所述底板与所述中板间流动并且使前体气体在所述中板与所述顶板之间流动。

2.如权利要求1所述的气体注入器，其中，所述中板包括形成于该中板的底部表面的一个或多个净化用气体流动通道，以使所述净化用气体从净化用气体进口流至所述中板的出口侧。

3.如权利要求1所述的气体注入器，其中，所述中板包括形成于该中板的上部表面的多个前体气体流动通道，以使所述前体气体从前体气体进口流至所述中板的出口侧。

4.如权利要求3所述的气体注入器，其中，每个前体气体流动通道均包括相对狭窄的进口部分、相对宽阔的出口部分以及位于所述进口部分与所述出口部分之间的发散的中间部分。

5.如权利要求1所述的气体注入器，该气体注入器还包括焊接部，所述焊接部沿所述中板及所述顶板的至少一个周边外缘形成，以将所述中板联接至所述顶板。

6.如权利要求5所述的气体注入器，其中，所述焊接部被配置为将所述中板和所述顶板之间的前体气体流与所述底板和所述中板之间的净化用气体流分开。

7.如权利要求5所述的气体注入器，其中，除了沿所述顶板的出口侧和所述中板的出口侧之外，所述焊接部至少大体上连续地沿所述中板和所述顶板的整个周边外缘形成。

8.如权利要求1所述的气体注入器，其中，所述底板包括贯穿该底板延伸的净化用气体进口以及贯穿该底板的孔洞，所述孔洞按尺寸和构造形成为以便接纳所述中板的前体气体进口杆。

9.如权利要求1所述的气体注入器，其中，所述底板、所述中板以及所述顶板中的每一个均大体由石英构成。

10.一种在衬底上形成材料的方法，该方法包括：

使第一前体气体在气体注入器的中板与顶板之间流动；

使净化用气体在所述气体注入器的底板与所述中板之间流动；以及

使所述第一前体气体流出所述气体注入器，并且使所述第一前体气体朝向被定位成靠近所述气体注入器的衬底流动。

11.如权利要求10所述的方法，该方法还包括：

使第二前体气体在所述第一前体气体的对面沿所述顶板的上部表面流动；以及

使所述第一前体气体和所述第二前体气体反应，以在所述衬底上形成材料。

12.如权利要求10所述的方法，其中，使第一前体气体在气体注入器的中板与顶板之间流动的步骤包括：使所述第一前体气体流动穿过形成在所述中板的上部表面中的多个前体气体流动通道。

13.如权利要求10所述的方法，其中，使净化用气体在所述气体注入器的底板与所述中板之间流动的步骤包括：使所述净化用气体流动穿过形成在所述中板的下部表面中的至少一个净化用气体流动通道。

14.如权利要求10所述的方法，该方法还包括：利用沿所述中板的周边外缘并且至少部分地在所述中板和所述顶板之间形成的焊接部，抑制所述第一前体气体流入所述净化用气体的流路。