[发明专利]定位系统、光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种用于在光刻设备中定位物体的定位系统，所述定位系统包括：

支架，构造用于保持所述物体；

位置测量装置，配置用于测量所述支架的位置，所述位置测量装置包括至少一个位置传感器目标以及多个位置传感器，所述多个位置传感器用于与所述至少一个位置传感器目标协作以提供表示所述支架的位置的位置信号的冗余集合；

形变传感器，设置用于提供表示所述支架和所述位置测量装置中的一个的形变的形变信号，以及

处理器，配置用于基于所述形变信号和所述位置信号的冗余集合来校准所述位置测量装置和所述形变传感器中的一个。

2.根据权利要求1所述的定位系统，其中，所述形变传感器连接至所述支架和所述位置测量装置中的一个。

3.根据权利要求2所述的定位系统，其中，所述形变传感器包括应变传感器。

4.根据权利要求1－3所述的定位系统，包括用于定位所述支架的定位装置，其中所述处理单元进一步包括用于控制所述位置装置的位置的位置控制器，所述位置控制器被设置用于基于所述位置信号的冗余集合和所述形变信号确定针对所述定位装置的设置点。

5.一种光刻设备，包括根据权利要求1－4所述的定位系统，所述光刻设备包括构造用于支撑具有图案的图案化装置的图案化装置支架、构造用于保持衬底的衬底操作台、以及构造用于将所述图案投影至衬底上的投影系统，

其中，所述支架包括所述图案化装置支架，其中所述物体包括所述图案化装置。

6.一种光刻设备，包括根据权利要求1－4所述的定位系统，所述光刻设备包括构造用于支撑具有图案的图案化装置的图案化装置支架、构造用于保持衬底的衬底操作台、以及构造用于将所述图案投影至所述衬底上的投影系统，

其中，所述支架包括所述衬底操作台，以及其中所述物体包括所述衬底。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，包括静止框架，其中所述至少一个位置传感器目标包括连接至所述静止框架的光栅，以及

其中所述多个位置传感器连接至所述衬底操作台。

8.根据权利要求6所述的光刻设备，包括静止框架，其中所述至少一个位置传感器目标包括连接至所述衬底操作台的光栅，以及

其中所述多个位置传感器连接至所述静止框架。

9.根据权利要求7－8所述的光刻设备，其中，所述静止框架支撑所述投影系统。

10.根据权利要求5－9所述的光刻设备，其中，所述位置测量装置包括干涉仪。

11.一种器件制造方法，包括，使用根据权利要求1－4所述的定位系统或者使用根据权利要求5－10所述的光刻设备来定位物体。