[发明专利]用于可植入医疗设备的高电压单元的晶片级封装以及对应的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380031166.3 申请日: 2013-04-03
公开(公告)号: CN104363957B 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: M·R·布恩;M·阿斯卡林亚;R·E·克拉奇菲尔德;E·赫尔曼;M·S·里科塔;L·王 申请(专利权)人: 美敦力公司
主分类号: A61N1/39 分类号: A61N1/39;H01L25/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 宋静娴
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 植入 医疗 设备 电压 单元 晶片 封装 以及 对应 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于可植入心脏去纤颤器的高电压单元的多芯片模块化晶片级封装,所述封装包括:

高电压(HV)组件芯片,所述高电压组件芯片包括位于其第一侧的第一接触表面以及位于其第二侧的第二接触表面,所述HV芯片的所述第二侧与所述HV芯片的所述第一侧相对;

通过聚合物模复合形成的经重构晶片,其中所述HV芯片与所述封装的其他芯片封在一起,使得每一芯片的第一侧与所述晶片的第一侧共面;以及

耦合到所述HV芯片的所述第二接触表面并位于所述晶片的第一侧上的互连区段。

2.如权利要求1所述的封装,其特征在于,还包括从耦合到所述HV芯片的所述第二接触表面的第一端延伸到形成所述互连区段的第二端的导电聚合物层。

3.如权利要求1或2所述的封装,其特征在于,还包括在所述经重构晶片的第一侧上延伸的重分布层,所述重分布层包括多个路由迹线,所述路由迹线中的第一个耦合到所述HV组件芯片的所述第一接触表面且所述路由迹线中的第二个耦合到所述互连区段。

4.如权利要求1所述的封装,其特征在于,还包括在所述经重构晶片的第一侧上延伸的重分布层,所述重分布层包括多个路由迹线,所述路由迹线中的第一个耦合到所述HV组件芯片的所述第一接触表面且所述路由迹线中的第二个耦合到所述互连区段。

5.如权利要求1所述的封装,其特征在于,进一步包括:

覆盖并耦合到所述HV组件芯片的所述第二接触的导电聚合物层;以及

在所述经重构晶片的第二侧上延伸的重分布层,所述经重构晶片的所述第二侧与其第一侧相对,所述重分布层包括耦合到所述导电聚合物层的路由迹线;以及

其中所述经重构晶片包括从所述晶片的所述第一侧处的第一端延伸到所述晶片的所述第二侧处的第二端的导电聚合物通孔(TPV),所述TPV的第二端耦合到所述重分布层的导电迹线,且所述HV互连区段包括所述TPV的第一端。

6.如权利要求1所述的封装,其特征在于:

所述经重构晶片还包括界定其第一侧的周界;以及

所述HV互连区段从所述晶片的周界凹进,其中所述HV互连区段包括通孔块。

7.如权利要求1所述的封装,其特征在于,所述互连区段被包括在互连元件中,所述互连元件还包括从所述互连区段延伸到所述经重构晶片的第二侧的导电柱,所述经重构晶片的所述第二侧与其第一侧相对。

8.如权利要求1所述的封装,其特征在于:

所述HV芯片被包括在经重构芯片中,所述经重构芯片还包括:

与所述HV芯片的所述第一侧相对应且共面的第一侧;

与所述HV芯片的所述第二侧相对应的第二侧;

从所述经重构芯片的第一侧处的第一端延伸到所述经重构芯片的第二侧的第二端的导电聚合物通孔(TPV);以及

在所述经重构芯片的所述第二侧上延伸并将所述HV芯片的所述第二接触表面耦合到所述TPV的所述第二端的路由迹线;并且

所述互连区段包括所述经重构芯片的TPV的第一端。

9.如权利要求1所述的封装,其特征在于,还包括在所述经重构晶片的第二侧上延伸的散热板,所述经重构晶片的所述第二侧与其第一侧相对;并且其中:

所述HV芯片的所述第二侧从所述经重构晶片的所述第二侧凹进;并且

所述经重构晶片包括在其中形成并从所述HV芯片的所述第二侧延伸到所述散热板的热管阵列。

10.如权利要求1所述的封装,其特征在于,还包括在所述经重构晶片的第二侧上延伸的散热板,所述经重构晶片的所述第二侧与其第一侧相对;并且其中:

所述HV芯片的所述第二侧从所述经重构晶片的所述第二侧凹进;并且

所述HV芯片还包括安装在所述HV芯片的所述第二侧上且延伸到所述散热板的各列堆叠金纽扣凸块的阵列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美敦力公司,未经美敦力公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380031166.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top