[发明专利]有效空间调制照射系统

权利要求书

1.一种投射装置，其包括：

第一透镜，所述第一透镜具有第一焦距及第一光轴；

空间光调制器，其定位于沿着所述第一光轴在制造公差内远离所述第一透镜一个第一焦距处；及

光源，其经配置以照射所述空间光调制器，其中所述光源包含光发射器及光展保留反射器，

其中所述装置经配置以使用来自所述光源的光将所述空间光调制器所产生的图案投射到无限远处。

2.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述空间光调制器与所述光源的输出平面相邻。

3.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述光展保留反射器经配置以将来自所述光源的光的射束实质上引导到所述第一透镜的通光孔径中。

4.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述光展保留反射器经配置以将来自所述光源的光的射束实质上引导到所述第一透镜的接受锥体中。

5.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述光源包含光发射器的阵列。

6.根据权利要求5所述的投射装置，其中所述光源包含对应于光发射器的所述阵列的光展保留反射器的阵列。

7.根据权利要求6所述的投射装置，其中在光发射器的所述阵列中的所述光发射器中的每一者与光展保留反射器的所述阵列中的所述反射器中的每一者之间存在一一对应关系。

8.根据权利要求5所述的投射装置，其进一步包括第二透镜，所述第二透镜具有第二焦距及与所述第一光轴对准的第二光轴，所述第二透镜经定位于在所述空间光调制器的与所述第一透镜相对的侧上远离所述空间光调制器实质上一个第二焦距处，

其中所述光源经配置以照射所述第二透镜的通光孔径，且

其中所述光源的输出平面经定位远离所述第二透镜实质上一个第二焦距处，使得所述光源及所述第二透镜一起在所述空间光调制器的位置处提供光的增强均匀性。

9.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述空间光调制器是透射的。

10.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述空间光调制器是可控制的以产生多个图案中的任一者。

11.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述空间光调制器包含液晶显示面板或干涉调制器的阵列。

12.根据权利要求1所述的投射装置，其中所述装置不包含用于调整所述装置的焦点的机制。

13.一种制造投射装置的方法，所述方法包括：

提供第一透镜，所述第一透镜具有第一焦距及第一光轴；

提供空间光调制器，其定位于沿着所述第一光轴在制造公差内远离所述第一透镜一个第一焦距处；及

提供光源，其经配置以照射所述空间光调制器，其中所述光源包含光发射器及光展保留反射器，

其中所述装置经配置以使用来自所述光源的光将所述空间光调制器所产生的图案投射到无限远处。

14.根据权利要求13所述的方法，其中提供所述空间光调制器与所述光源的输出平面相邻。

15.根据权利要求13所述的方法，其中所述光展保留反射器经配置以将来自所述光源的光的射束实质上引导到所述第一透镜的通光孔径中。

16.根据权利要求13所述的方法，其中所述光展保留反射器经配置以将来自所述光源的光的射束实质上引导到所述第一透镜的接受锥体中。

17.根据权利要求13所述的方法，其中所述光源包含光发射器的阵列。

18.根据权利要求17所述的方法，其中所述光源包含对应于光发射器的所述阵列的光展保留反射器的阵列。

19.根据权利要求18所述的方法，其中在光发射器的所述阵列中的所述光发射器中的每一者与光展保留反射器的所述阵列中的所述反射器中的每一者之间存在一一对应关系。