[发明专利]填充水平测量设备及用于确定介电常数的设备

权利要求书

1.一种填充水平测量设备(9)，用于借助于行进时间方法来确定容器(12)中的过程介质(10)的填充水平，其特征在于，

所述填充水平测量设备(9)具有用于确定第二介质(11)的介电常数的装置(1)，所述第二介质(11)位于所述填充水平测量设备(9)和所述过程介质(10)之间，

其中，所述装置(1)包括用于高频测量信号的至少一个波导(2)，其中所述波导(2)至少部分地填充有电介质(21)并且被实施并可布置为使得所述电介质(21)与所述第二介质(11)形成界面(23)，经由所述波导(2)而被供给到所述第二介质(11)的测量信号的相当大部分在所述界面(23)处被反射。

2.根据权利要求1所述的填充水平测量设备，其特征在于，

设置有至少一个电子单元(98)，所述电子单元(98)被实施为基于朝向所述过程介质(10)发射并在所述过程介质上反射的信号来确定所述填充水平的测量值，并且根据所述第二介质(11)的测量的介电常数来确定所述填充水平的校正测量值。

3.根据权利要求2所述的填充水平测量设备，其特征在于，

在所述电子单元(98)中配备有根据所述第二介质(11)的介电常数的用于所述填充水平的测量值的校正的至少一个校正值和/或校正公式，并且所述电子单元(98)被实施为根据所述校正值和/或所述校正公式来校正所述填充水平的测量值。

4.根据权利要求1至3中的一项所述的填充水平测量设备，其特征在于，

所述填充水平测量设备(9)被实施为超声测量设备、具有导向信号的雷达测量设备或者利用自由传播波的雷达测量设备。

5.根据权利要求1所述的填充水平测量设备，其特征在于，所述装置(1)还包括电子单元(8)，

所述波导(2)能够引入到所述容器(12)内以使得所述电介质(21)与所述第二介质(11)形成所述界面(23)，并且

所述电子单元(8)被实施为接收在所述界面(23)上反射的信号并且参考幅度来评估反射信号。

6.根据权利要求5所述的填充水平测量设备，其特征在于，

所述电子单元(8)将所述测量信号的幅度与所述反射信号的幅度进行比较，并且从所述幅度的比来确定所述第二介质(11)的介电常数。

7.根据权利要求5或6所述的填充水平测量设备，其特征在于，

所述电介质(21)具有截锥形端部(22)。

8.根据权利要求5或6所述的填充水平测量设备，其特征在于，

在所述装置(1)上形成有至少一个冷却翅片(5)。

9.根据权利要求5或6所述的填充水平测量设备，其特征在于，

所述波导(2)被实施为中空导体或同轴导体。

10.一种用于确定容器(12)中的过程介质(10)的填充水平的系统，至少包括根据权利要求1至9中的一项所述的用于借助于行进时间方法来确定所述过程介质(10)的填充水平的填充水平测量设备(9)，其中第二介质(11)位于所述过程介质(10)和所述填充水平测量设备(9)之间。