[发明专利]触摸面板和带触摸面板的显示装置有效
申请号: | 201380032293.5 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN104380228B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 美崎克纪 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G06F3/044 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本,*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 触摸 面板 显示装置 | ||
1.一种触摸面板,其特征在于,具备:
透光性的基板;
在所述基板的一部分上形成的遮光膜;
覆盖所述基板和所述遮光膜而形成的平坦化膜;
覆盖所述平坦化膜而形成的阻挡膜;
在所述阻挡膜上形成的传感电极;
形成在比所述平坦化膜远离所述基板的层中的俯视时与所述遮光膜重叠的部分的端子;和
形成在比所述平坦化膜远离所述基板的层,将所述传感电极与所述端子电连接的配线,
所述阻挡膜包括:
形成在所述平坦化膜侧,由无机物构成的第一无机膜;和
形成在所述第一无机膜上,由折射率比所述第一无机膜的折射率低的无机物构成的第二无机膜。
2.如权利要求1所述的触摸面板,其特征在于:
所述第一无机膜的折射率为1.72~1.98,
所述第二无机膜的折射率为1.41~1.68。
3.如权利要求2所述的触摸面板,其特征在于:
所述第一无机膜的厚度为3~12nm,
所述第二无机膜的厚度为30~160nm。
4.如权利要求1至3中任一项所述的触摸面板,其特征在于:
所述第一无机膜包括氮化硅膜。
5.如权利要求1至4中任一项所述的触摸面板,其特征在于:
所述第二无机膜包括氧化硅和氧氮化硅中的任一个。
6.如权利要求1至5中任一项所述的触摸面板,其特征在于:
所述配线形成在俯视时与所述遮光膜重叠的部分。
7.如权利要求1至6中任一项所述的触摸面板,其特征在于:
所述端子形成在所述阻挡膜上。
8.一种带触摸面板的显示装置,其特征在于,具备:
液晶显示装置;和
权利要求1至7中任一项所述的触摸面板。
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