[发明专利]玻璃陶瓷制品及制造方法有效
申请号: | 201380032307.3 | 申请日: | 2013-06-18 |
公开(公告)号: | CN104379529B | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | F.吉耶莫;N.舍曼;N.迪亚;P.维拉托 | 申请(专利权)人: | 尤罗科拉公司 |
主分类号: | C03C17/02 | 分类号: | C03C17/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段家荣;林森 |
地址: | 法国蒂*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃陶瓷基 基底 玻璃陶瓷制品 表面粗糙度 玻璃陶瓷板 加热元件 粗糙度 制造 图案 覆盖 | ||
1.一种包含至少一个玻璃陶瓷基底的制品,所述基底在至少一个区域中呈现表面粗糙度,使得构成所述粗糙度的图案的特征尺寸为2至100微米,其中该粗糙度由图案的网络构成,各图案的更大纵向截面的外周落在两个同心圆之间,一个具有2微米的直径,另一个具有100微米的直径。
2.如权利要求1所要求保护的制品,其特征在于所述制品是板。
3.如权利要求1所要求保护的制品,其特征在于所述制品用于覆盖或接收至少一个加热元件。
4.如权利要求1所要求保护的制品,其特征在于所述图案是几何图案。
5.如权利要求1所要求保护的制品,其特征在于该图案的高度H为2至50微米,并且各个图案之间的间距小于或等于50微米。
6.如权利要求1至5之一所要求保护的制品,其特征在于该图案具有正方形或矩形的纵向和/或横向截面,具有各自为2至15微米的高度、长度和宽度,以及小于或等于50微米的间距,和/或该图案具有三角形或金字塔形横截面,高度小于20微米,间距小于30微米。
7.如权利要求6所要求保护的制品,其特征在于该图案具有正方形或矩形的纵向和/或横向截面,具有各自为2至10微米的高度、长度和宽度。
8.如权利要求6所要求保护的制品,其特征在于该图案具有正方形或矩形的纵向和/或横向截面,具有各自为1至50微米的间距。
9.如权利要求8所要求保护的制品,其特征在于该图案具有正方形或矩形的纵向和/或横向截面,具有各自为小于30微米的间距。
10.如权利要求1至5之一所要求保护的制品,其特征在于该基底在至少一个表面的至少一个区域中包括表现出所述粗糙度的至少一个层。
11.如权利要求10所要求保护的制品,其特征在于所述层是溶胶-凝胶层。
12.如权利要求1至5之一所要求保护的制品,或包含如权利要求1至5之一所要求保护的制品并包含一个或多个加热元件的用于烹饪和/或保持在高温下的装置。
13.一种用于制造如权利要求1至12之一所要求保护的包含至少一个玻璃陶瓷基底的制品的方法,根据该方法,使用模塑至所述粗糙度的轮廓的垫或掩模在沉积在所述基底上的层上复制目标粗糙度。
14.如权利要求13所要求保护的方法,其特征在于在玻璃陶瓷基底上沉积能够变形的层,随后将预先模塑为目标粗糙度的轮廓的垫或掩模的结构化面施加到所述层上,和将所述粗糙度转印到能够变形的所述层上。
15.如权利要求14所要求保护的方法,其特征在于在热条件下和在压力下将所述粗糙度转印到能够变形的所述层上。
16.如权利要求13和14之一所要求保护的方法,其特征在于能够变形的层是溶胶-凝胶层,该掩模的织构化面的材料是弹性体类型的聚合物。
17.如权利要求13和14之一所要求保护的方法,其特征在于通过以下方法获得该掩模:将聚合物材料或其前体施加到具有目标粗糙度的表面上或将聚合物材料或其前体倾倒在具有目标粗糙度的表面上,并随后在适当情况下通过冷却、加热和/或交联固定该掩模以获得具有所需设定轮廓的由弹性体制成的掩模。
18.如权利要求16所要求保护的方法,其特征在于其包含热处理的后继步骤以致密化和/或固定结构化层,并在适当情况下除去有机基团。
19.通过如权利要求13至18之一所要求保护的方法获得的玻璃陶瓷制品,其特征在于其表现出小于100微米的粗糙度。
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