[发明专利]有机化合物的浓缩水溶液的制造方法有效
申请号: | 201380032485.6 | 申请日: | 2013-06-07 |
公开(公告)号: | CN104394954A | 公开(公告)日: | 2015-03-04 |
发明(设计)人: | 难波正典;齐藤淳之介 | 申请(专利权)人: | 花王株式会社 |
主分类号: | B01D17/00 | 分类号: | B01D17/00;B01D1/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;季向冈 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机化合物 浓缩 水溶液 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及有机化合物的浓缩水溶液的制造方法以及其的脱水浓缩方法。
背景技术
研究开发了通过对有机化合物的水溶液照射超声波使水雾化从而脱水的技术。
例如,在专利文献1和2中,公开了对植物系原料的发酵物照射超声波使水雾化从而分离乳酸的技术。
另外,在专利文献3中,公开了通过对粘度为25mPa·s以下的甘油水溶液照射超声波使水雾化从而制造脱水浓缩的浓缩甘油的制造方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-115165号公报
专利文献2:日本特开2010-233543号公报
专利文献3:日本特开2012-144530号公报
发明内容
本发明为一种有机物的浓缩水溶液的制造方法,其中,包括:浓度调节步骤,将含有浓度小于40质量%的分子内具有2个以上亲水基的有机化合物的水溶液调节至上述有机化合物的浓度为40质量%以上;脱水浓缩步骤,通过对上述浓度调节步骤中上述有机化合物的浓度已调节为40质量%以上的水溶液照射超声波使水雾化,从而脱水浓缩。
本发明为一种脱水浓缩方法,其中,将含有浓度小于40质量%的分子内具有2个以上亲水基的有机化合物的水溶液调节至上述有机化合物的浓度为40质量%以上之后,对上述有机化合物的浓度已调节为40质量%以上的水溶液照射超声波使水雾化,从而脱水浓缩。
附图说明
[图1]表示方式1中使用的超声波雾化装置的构成的框图。
[图2]表示方式2和3中使用的超声波雾化装置的构成的框图。
[图3]表示方式2A和3A中使用的超声波雾化装置的构成的框图。
[图4](a)~(c)是表示方式2A和3A中使用的其它超声波雾化装置的构成的框图。
[图5]表示实施例中使用的实验用的超声波雾化装置的构成的框图。
符号说明
10,20 超声波雾化装置
11,21 雾化槽
12,22 超声波振荡器
13 浓缩水溶液排出管
14,24 原料槽
15,25 原料供给管
16,18,26 回流管
17 有机化合物A供给管
19 浓度调节部
27 载气供给管
28 雾回收管
29 雾回收器
具体实施方式
以下针对实施方式进行详细说明。
本实施方式所涉及的有机化合物的浓缩水溶液的制造方法包括浓度调节步骤和脱水浓缩步骤。而且,在浓度调节步骤中,将含有浓度小于40质量%的分子内具有2个以上亲水基的有机化合物(以下,在本申请中称为“有机化合物A”。)的水溶液作为原料,将该原料水溶液调节至有机化合物A的浓度成为40质量%以上。在脱水浓缩步骤中,通过对在浓度调节步骤中有机化合物A的浓度已调节为40质量%以上的水溶液(以下,在本申请中也称为“高浓度原料水溶液”)照射超声波使水雾化,从而脱水浓缩。
本发明者们发现:在对有机化合物的水溶液照射超声波使水雾化来脱水浓缩的情况下,在分子内具有2个以上亲水基的有机化合物中,在水溶液中有机化合物的浓度达到一定的边界浓度之前,随着浓度上升照射超声波时产生的雾滴中所含的有机化合物的浓度也上升,另一方面,如果照射超声波的水溶液中有机化合物的浓度超过该边界浓度,则照射超声波时产生的雾滴中所含的有机化合物的浓度会降低。而且发现:在有机化合物分子内具有2个以上亲水基的情况下,如果水溶液中有机化合物的浓度为40质量%以上,则照射超声波时产生的雾滴中所含的有机化合物的浓度极低。
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