[发明专利]空间光调制器及曝光装置有效
申请号: | 201380032513.4 | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN104380172B | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | 铃木纯儿;铃木美彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;B81B3/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人: | 林娜,段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 空间 调制器 曝光 装置 | ||
1.一种空间光调制器,包括:
基板;
固定电极,设置于所述基板的表面上;
连结部,一端与所述表面相连结;
可动部,与所述连结部的另一端相连结,通过所述连结部的弹性形变而相对于所述基板摆动;
反射部件,包含半导体层并具有与所述可动部一体摆动的反射面;
金属层,与所述半导体层相邻接;
欧姆结部,将所述半导体层与所述金属层进行欧姆连结。
2.根据权利要求1所述的空间光调制器,其中,所述欧姆结部是通过在与所述金属层相邻接的区域的至少一部分中掺杂入掺杂剂从而形成为所述半导体层的一部分。
3.根据权利要求1所述的空间光调制器,其中,所述欧姆结部是通过在与所述金属层的整个交界面上掺杂入掺杂剂从而形成为所述半导体层的厚度方向的一部分。
4.一种曝光装置,具备权利要求1~3中任一项所述的空间光调制器。
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