[发明专利]薄层太阳能电池的层系统有效
申请号: | 201380032811.3 | 申请日: | 2013-06-19 |
公开(公告)号: | CN104885205B | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | J·帕尔姆;S·波尔纳;T·哈普;T·达利博尔;R·迪特米勒 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
主分类号: | H01L21/36 | 分类号: | H01L21/36;H01L21/02;H01L31/032 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 杜荔南,胡莉莉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄层 太阳能电池 系统 | ||
1.薄层太阳能电池(100)的层系统(1),包括:
-吸收层(4),其含有硫族化合物半导体,和
-缓冲层(5),其布置在吸收层(4)上并且含有富含卤素的ZnxIn1-xSy,其中0.01≤x≤0.9和1≤y≤2,
其中缓冲层(5)由与吸收层(4)接界的具有卤素材料量份额A1的第一层区域(5.1)和与第一层区域(5.1)接界的具有卤素材料量份额A2的第二层区域(5.2)组成,并且比例A1/A2≥2,并且第一层区域(5.1)的层厚(d1)小于等于缓冲层(5)的层厚(d)的50%。
2.按照权利要求1的层系统(1),其中第一层区域(5.1)的层厚(d1)小于等于缓冲层(5)的层厚(d)的30%。
3.按照权利要求2的层系统(1),其中第一层区域(5.1)的层厚(d1)小于等于缓冲层(5)的层厚(d)的20%。
4.按照权利要求1至3之一的层系统(1),其中比例A1/A2为2至1000。
5.按照权利要求4的层系统(1),其中所述比例A1/A2为10至100。
6.根据权利要求1至3之一的层系统(1),其中第一层区域(5.1)中面覆盖的卤素量为1·1013原子/cm2至1·1017原子/cm2。
7.根据权利要求6的层系统(1),其中第一层区域(5.1)中面覆盖的卤素量为2·1014原子/cm2至2·1016原子/cm2。
8.根据权利要求1至3之一的层系统(1),其中y为x+(l-x)×1.3至x+(1-x)×1.5。
9.根据权利要求1至3之一的层系统(1),其中缓冲层(5)中的卤素材料量份额具有梯度,该梯度从朝向吸收层(4)的表面向缓冲层(5)内部下降。
10.根据权利要求1至3之一的层系统(1),其中缓冲层(5)的层厚(d)为5nm至150nm。
11.根据权利要求10的层系统(1),其中缓冲层(5)的层厚(d)为15nm至50nm。
12.根据权利要求1至3之一的层系统(1),其中卤素是氯、溴或碘。
13.根据权利要求1至3之一的层系统(1),其中硫族化合物半导体包含Cu(In,Ga,Al)(S,Se)2。
14.根据权利要求13的层系统(1),其中硫族化合物半导体还包含CuInSe2、CuInS2、Cu(In,Ga)Se2或Cu(In,Ga)(S,Se)2或Cu2ZnSn(S,Se)4。
15.薄层太阳能电池(100),包括:
-衬底(2),
-布置在衬底(2)上的背电极(3),
-布置在背电极(3)上的根据权利要求1至14之一的层系统(1),和
-布置在层系统(1)上的前电极(7)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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