[发明专利]用于生产具有无效敏感模式的电子装置的方法以及用于将这样的电子装置变换来再激活它的敏感模式的方法有效

专利信息
申请号: 201380032823.6 申请日: 2013-06-05
公开(公告)号: CN104364665B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: P.卢贝蒙迪 申请(专利权)人: 格马尔托股份有限公司
主分类号: G01R31/317 分类号: G01R31/317;G06F21/73;G06F21/74;G06F21/75;G06F21/77
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 申屠伟进,陈岚
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 生产 具有 无效 敏感 模式 电子 装置 方法 以及 这样 变换 激活
【权利要求书】:

1.一种用于将安全电子装置(CH)变换用于新的敏感使用的方法,所述安全电子装置(CH)与第一标识符关联并且具有在生产之后无效的敏感模式,其特征在于所述方法包括以下步骤:(i)利用供给有所述第一标识符和预定秘密密钥的预定函数来外部计算所述第一标识符的密码,(ii)将所述电子装置(CH)的可达到的金属层(ML)变换以形成表示第一标识符的所述外部计算的密码的激活样式(AS),(iii)取得表示到所述电子装置(CH)中的所述激活样式的值,(iv)利用所述变换的电子装置(CH)通过向所述预定函数的反函数供给所述值和所述秘密密钥来计算第二标识符,以在所述第二标识符等于所述第一标识符的情况下触发向所述敏感模式的复原。

2.根据权利要求1的所述方法,其特征在于:

在步骤(iii)中表示所述激活样式的所述值是二进制值或模拟值。

3.根据权利要求1的所述方法,其特征在于:

在步骤(ii)中借助于切削技术来定义所述激活样式,所述切削技术旨在去除到所述金属层(ML)的位置中的金属部分,所述位置由所述第一标识符的所述计算的密码所定义。

4.根据权利要求3的所述方法,其特征在于:

所述第一标识符的所述计算的密码被N个位定义,所述N个位与属于所述电子装置(CH)的安全电路(SC)的所述金属层(ML)的N个连续线(CL)分别关联,并且

未变换的连续线(CL)表示等于零的第一标识符的所述计算的密码的位,而变换成为中断线的连续线(CL)表示等于一的第一标识符的所述计算的密码的位,其中,N大于一。

5.根据权利要求3至4中的一个的所述方法,其特征在于:

从至少包括激光切削和聚焦离子束切削的组中选择所述切削技术。

6.根据权利要求1的所述方法,其特征在于:

所述预定函数是加密函数。

7.根据权利要求6的所述方法,其特征在于:

从至少包括简单数据加密标准算法、三重数据加密标准算法、高级加密标准算法和RSA算法的组中选择所述加密函数。

8.一种用于生产安全电子装置(CH)的方法,所述安全电子装置与第一标识符关联并且具有在生产之后无效的敏感模式,其特征在于该方法包括以下步骤:

(a)定义电子电路(EC)到所述电子装置(CH)中以执行预定函数,其中定义旨在用于提供所述敏感模式的敏感电路(TC),(b)定义适用于使用密钥和代表从可达到的金属层读取的样式的值执行反函数的安全电路(SC),所述安全电路(SC)被耦合到所述敏感电路(TC)并且旨在用于当它从所述反函数取得所述第一标识符的密码时授权所述敏感电路(TC)来提供所述敏感模式,以及(c)定义去激活样式(DS)到所述电子装置(CH)的所述可达到的金属层(ML)中,所述去激活样式被布置用于向所述安全电路(SC)中引发通过所述反函数生成与第一标识符的所述密码不同并且因此阻止所述敏感电路(TC)提供所述敏感模式的值。

9.根据权利要求8的所述方法,其特征在于:

在步骤(c)中定义去激活样式(DS),所述去激活样式(DS)包括与第一标识符的所述密码的N个位分别关联的N个连续线(CL)。

10.根据权利要求9的所述方法,其特征在于:

在变换阶段之后没有被变换的连续线(CL)表示等于零的所述第一标识符的所述密码的位,而在变换阶段之后变换成为中断线的连续线(CL)表示等于一的第一标识符的所述密码的位。

11.根据权利要求8的所述方法,其特征在于:

所述安全电路(SC)被布置用于向预定函数的反函数供给预定秘密密钥和第一标识符的所述密码来计算第二标识符,并且用于在所述第二标识符等于所述第一标识符的情况下触发所述电子装置(CH)复原到所述敏感模式。

12.根据权利要求11的所述方法,其特征在于:

所述预定函数是加密函数。

13.根据权利要求12的所述方法,其特征在于:

从至少包括简单数据加密标准算法、三重数据加密标准算法、高级加密标准算法和RSA算法的组中选择所述加密函数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格马尔托股份有限公司,未经格马尔托股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380032823.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top