[发明专利]用于样品制备或自主分析的流体装置和系统

权利要求书

1.一种样品制备装置，包括：

(i)包括多个第一腔室的第一层，所述多个第一腔室包括配置成用于接收样品的样品腔室、配置成用于容纳冲洗缓冲液的冲洗腔室和配置成用于容纳洗脱缓冲液的洗脱腔室；

(ii)包括一个或多个第二腔室的第二层；以及

(iii)安置于所述第一层与第二层之间的中间层，

其中所述中间层包括膜基质，

其中所述多个第一腔室中的至少一个、所述一个或多个第二腔室中的至少一个以及所述膜基质能够通过相对移动而连接，

其中所述膜基质被配置为当所述样品腔室、所述一个或多个第二腔室中的至少一个与所述膜基质通过相对移动而连接时，将所述样品捕获到所述膜基质中，且

其中所述冲洗缓冲液用于冲洗所述膜基质中所捕获的样品，并且所述洗脱缓冲液用于将所捕获的样品从所述膜基质中洗脱到所述洗脱腔室中。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述膜基质配置用于连接所述多个第一腔室中的两个或更多个以及所述一个或多个第二腔室中的至少一个。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述样品腔室、所述一个或多个第二腔室中的至少一个以及所述膜基质被配置成通过第一相对移动而连接，其中所述冲洗腔室、所述一个或多个第二腔室中的至少一个以及所述膜基质被配置成通过第二相对移动而连接；并且其中所述洗脱腔室、所述一个或多个第二腔室中的至少一个以及所述膜基质被配置成通过第三相对移动而连接。

4.根据权利要求2所述的装置，其中所述样品腔室、所述一个或多个第二腔室中的至少一个以及所述膜基质被配置成通过第一相对移动而连接，其中所述冲洗腔室、所述一个或多个第二腔室中的至少一个以及所述膜基质被配置成通过第二相对移动而连接；并且其中所述洗脱腔室、所述一个或多个第二腔室中的至少一个以及所述膜基质被配置成通过第三相对移动而连接。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中所述第一层、所述第二层或所述中间层是平面的或非平面的。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，其中所述第一层、所述第二层或所述中间层或者它们的一部分被有区别地润湿。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，进一步包括可变形层，该可变形层位于所述第一层与所述中间层之间和/或所述第二层与所述中间层之间。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的装置，进一步包括涂层，所述涂层位于所述第一层、所述中间层和所述第二层中的一种或多种上。

9.根据权利要求7所述的装置，进一步包括涂层，所述涂层位于所述可变形层上。

10.根据权利要求7所述的装置，进一步包括涂层，所述涂层位于所述可变性层上并且位于所述第一层、所述中间层和所述第二层中的一种或多种上。

11.根据权利要求8所述的装置，其中所述涂层包括含氟聚合物。

12.根据权利要求9所述的装置，其中所述涂层包括含氟聚合物。

13.根据权利要求10所述的装置，其中所述涂层包括含氟聚合物。

14.根据权利要求1-4和9-13中任一项所述的装置，其中所述第一层、所述第二层和/或所述中间层能纵向平移。

15.根据权利要求1-4和9-13中任一项所述的装置，其中所述第一层、所述第二层和/或所述中间层能轴向旋转。