[发明专利]表面制备方法在审

专利信息
申请号: 201380033250.9 申请日: 2013-05-23
公开(公告)号: CN104508556A 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: C.纳瓦罗;K.艾索;C.布罗乔;S.迪尔海尔;G.弗勒里;S.格劳拜;G.哈齐奥安诺;J-M.兰普诺克斯;J.沙弗 申请(专利权)人: 阿克马法国公司;波尔多大学
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;G03F7/40;B81C1/00;B82Y30/00;G03F7/00;B05D3/06
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 宋莉
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 表面 制备 方法
【权利要求书】:

1.通过光强度的空间分布制备促进有序性和空间相干性的浮雕一般的表面的方法,所述表面用作在表面上的覆盖层的在纳米和微米尺度上的组织的导向装置,所述方法包括以下步骤:

A:在表面上沉积至少一种含有至少一个能异构化的官能团的(共)-聚合物的溶液或分散体,

B:蒸发溶剂,

C:根据光强度的空间分布照射由此处理的表面,和产生具有周期性或者非周期性的浮雕的基序,

D:在由此处理的表面上沉积至少一种嵌段共聚物的溶液或分散体,其三个尺寸的至少一个小于用于照射表面的半波长,

E:通过蒸发或者反应除去溶剂。

2.根据权利要求1的方法,其中所述含有至少一个能异构化的官能团的(共)-聚合物含有至少一个能交联的官能团,并且所述方法包括在步骤C之后的另外的步骤C’,所述步骤C’在于使含有至少一个能异构化的官能团和至少一个能交联的官能团的(共)-聚合物交联。

3.根据权利要求1的方法,其中所述嵌段共聚物是二嵌段共聚物。

4.根据权利要求1的方法,其中所述共聚物是嵌段共聚物,其中嵌段的至少一个是能降解的嵌段。

5.根据权利要求3的方法,其中所述二嵌段共聚物是PS-b-PMMA、PS-b-PEO、PS-b-PDMS、PLA-b-PDMS或PS-b-PLA。

6.根据权利要求1的方法,其中所述嵌段共聚物是三嵌段共聚物。

7.根据权利要求6的方法,其中所述三嵌段共聚物是PLA-b-PDMS-b-PLA。

8.根据权利要求1和2的方法,其中所述能异构化的官能团是偶氮官能团。

9.根据权利要求2的方法,其中所述能交联的官能团是丙烯酸类或者甲基丙烯酸类官能团。

10.根据权利要求2的方法,其中含有能异构化的和能交联的(共)-聚合物的溶液含有光引发剂。

11.根据权利要求10的方法,其中所述光引发剂是菁。

12.根据权利要求2的方法,其中含有能异构化的和能交联的(共)-聚合物的溶液还含有多官能单体。

13.根据权利要求12的方法,其中所述多官能单体是三((2-丙烯酰氧基)乙基)异氰尿酸酯。

14.根据权利要求1至13之一的方法获得的表面。

15.根据权利要求14的表面在制造在用于以下的应用中有用的表面的用途:全息光学组件,大量数据存储,制造显示出光控制的变形的表面或者材料,产生纳米孔或微孔性结构、例如用于滤膜或者电池,表面涂覆以获得例如超疏水性表面、斑驳的表面、抗反射表面、显示出乳白色效果的表面,在基材上产生光波导或者等离子体激元波导,控制材料的传递性质(电子的、声学的、热的、电磁的等),制造纳米尺度上的模板,或者作为在表面上的嵌段共聚物的组装导向装置、尤其是用作光刻法掩模。

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