[发明专利]通过掺入无机发光颗粒标记金属基材的方法

权利要求书

1.一种标记金属基材的方法，所述方法包括以下步骤：

-通过氧化所述金属基材的表面形成钝化层；

-将无机发光颗粒掺入所述金属基材的钝化层内，平均粒径在从4nm到1,000nm的范围内；

-堵塞所述钝化层。

2.如权利要求1所述的标记金属基材的方法，其中所述金属基材是选自包括以下的组的材料：不锈钢、锡、锌、钛、铝及其锻造或铸造合金、以及它们的混合物。

3.如权利要求1和2中任一项所述的标记金属基材的方法，其中所述无机发光颗粒选自包括基于以下的颗粒的组：金属氧化物、金属倍半氧化物、金属氟氧化物、金属钒酸盐、金属氟化物、以及其混合物。

4.如权利要求3所述的标记金属基材的方法，其中所述无机发光颗粒选自包括Y₂O₃、YVO₄、Gd₂O₃、Gd₂O₂S、LaF₃、以及其混合物的颗粒的组。

5.如权利要求1至4中任一项所述的标记金属基材的方法，其中所述无机发光颗粒掺杂有来自镧系元素家族或过渡元素家族的一个或多个活性位点。

6.如权利要求1至5中任一项所述的标记金属基材的方法，其中所述颗粒掺杂有来自镧系元素家族的离子，有利地铕。

7.如权利要求1至6中任一项所述的标记金属基材的方法，其中所述颗粒被封装，有利地被封装在聚硅氧烷或二氧化硅中。

8.如权利要求1至7中任一项所述的标记金属基材的方法，其中所述颗粒掺入通过将所述金属基材浸渍到胶体悬浮液内来进行。

9.如权利要求8所述的标记金属基材的方法，其中所述金属基材被浸渍到所述无机发光颗粒的所述胶体悬浮液内，持续在从5分钟到120分钟、更有利地从10分钟到60分钟的范围内的时间段。

10.如权利要求8所述的标记金属基材的方法，其中所述胶体悬浮液处于从90℃到100℃的范围内的温度下。

11.如权利要求1至10中任一项所述的标记金属基材的方法，其中堵塞所述钝化层的步骤与所述无机发光颗粒的掺入同时进行。

12.如权利要求8所述的标记金属基材的方法，其中所述胶体悬浮液具有在从0.01g/L到10g/L的范围内的颗粒浓度。

13.如权利要求1至12中任一项所述的标记金属基材的方法，其中所述颗粒是具有在从4纳米到100纳米、有利地从20纳米到50纳米的范围内的平均尺寸的纳米颗粒。

14.一种根据权利要求1至13中任一项所述的方法获得的金属基材。