[发明专利]取代的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)吡啶-3-基羧酰胺化合物及其作为除草剂的用途无效
| 申请号： | 201380034318.5 | 申请日： | 2013-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN104507925A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | H·克罗斯;M·维切尔;T·塞茨;T·W·牛顿;L·帕拉拉帕多;K·克罗伊茨;J·赫茨勒;M·帕斯特纳克;J·莱尔希尔;R·R·埃万斯 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C07D401/12 | 分类号： | C07D401/12;A01N43/653;A01N43/713 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 张双双;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 取代 吡啶 基羧酰胺 化合物 及其 作为 除草剂 用途 | ||
1.式I的N-(四唑-5-基)-和N-(三唑-5-基)吡啶-3-基羧酰胺、其N-氧化物或可农用盐：
其中
B为N或CH；
R选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、Rb-S(O)n-C1-C3烷基、Rc-C(＝O)-C1-C3烷基、RdO-C(＝O)-C1-C3烷基、ReRfN-C(＝O)-C1-C3烷基、RgRhN-C1-C3烷基、苯基-Z和杂环基-Z，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R'取代；
R1选自氰基-Z1、卤素、硝基、C1-C8烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基-Z1、C1-C4烷硫基-C1-C4烷基、C1-C4烷硫基-C1-C4烷硫基-Z1、C2-C6链烯氧基、C2-C6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷氧基-Z1、R1b-S(O)k-Z1、苯氧基-Z1和杂环氧基-Z1，其中杂环氧基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的氧键合的5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯氧基和杂环氧基中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R11取代；
R3选自氢、卤素、OH-Z2、NO2-Z2、氰基-Z2、C1-C6烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、C3-C10环烷基-Z2、C3-C10环烷氧基-Z2，其中两个前述基团中的C3-C10环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基-Z2、C1-C8卤代烷氧基-Z2、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基-Z2、C1-C4烷硫基-C1-C4烷硫基-Z2、C2-C8链烯氧基-Z2、C2-C8炔氧基-Z2、C2-C8卤代链烯氧基-Z2、C2-C8卤代炔氧基-Z2、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷氧基-Z2、(三-C1-C4烷基)甲硅烷基-Z2、R2b-S(O)k-Z2、R2c-C(＝O)-Z2、R2dO-C(＝O)-Z2、R2eR2fN-C(＝O)-Z2、R2gR2hN-Z2、苯基-Z2a和杂环基-Z2a，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的3、4、5或6员单环或8、9或10员双环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基-Z2a和杂环基-Z2a中的环状基团未被取代或被1、2、3或4个相同或不同的基团R21取代；
R4选自氢、卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；
R5选自氢、卤素、C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；
条件是基团R4和R5中至少一个不为氢；
n为0、1或2；
k为0、1或2；
R'、R11、R21相互独立地选自卤素、NO2、CN、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7卤代环烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6烷氧基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷硫基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基、C3-C7环烷氧基和C1-C6卤代烷氧基，或者两个连位基团R'、R11或R21一起可以形成基团＝O；
Z、Z1、Z2相互独立地选自共价键和C1-C4链烷二基；
Z2a选自共价键、C1-C4链烷二基、O-C1-C4链烷二基、C1-C4链烷二基-O和C1-C4链烷二基-O-C1-C4链烷二基；
Rb、R1b、R2b相互独立地选自C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、苯基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Rc、R2c相互独立地选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基、苄基和杂环基，其中杂环基为含有1、2、3或4个选自O、N和S的杂原子作为环成员的5或6员单环饱和、部分不饱和或芳族杂环，其中苯基、苄基和杂环基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Rd、R2d相互独立地选自C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Re、Rf相互独立地选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代，或者
Re、Rf与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N-键合杂环基团；
R2e、R2f相互独立地具有对Re、Rf所给含义；
Rg选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代；
Rh选自氢、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基，其中两个前述基团中的C3-C7环烷基未被取代或部分或完全被卤代，C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、基团C(＝O)-Rk、苯基和苄基，其中苯基和苄基未被取代或被1、2、3或4个相同或不同且选自卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团取代，或者
Rg、Rh与它们所键合的氮原子一起可以形成可以带有选自O、S和N的另一杂原子作为环成员且未被取代或可以带有1、2、3或4个相同或不同且选自＝O、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷氧基的基团的5、6或7员饱和或不饱和N-键合杂环基团；
R2g、R2h相互独立地具有对Rg、Rh所给含义；
Rk具有对Rc所给含义。
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