[发明专利]光取向曝光方法及光取向曝光装置

权利要求书

1.一种光取向曝光装置，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其特征在于，具有：

掩模，具有与所述分割区域中的一个区域对应的掩模图案；

第1曝光装置，以不经由聚光机构的方式，相对于整个所述单位图像区域的被曝光面以倾斜的光照射角度照射光；

第2曝光装置，相对于所述分割区域中的一个区域的被曝光面，经由所述掩模，用以与所述第1曝光装置的光照射角度不同的角度倾斜的光照射角度照射光；及

聚光机构，对所述掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的分割区域，

所述聚光机构沿着所述掩模图案的边缘配置有多个单透镜。

2.一种光取向曝光装置，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，其特征在于，具有：

第1曝光装置，以不经由聚光机构的方式，相对于所述分割区域中的一个区域的被曝光面以倾斜的光照射角度照射光；

第2曝光装置，相对于所述分割区域中的另一区域的被曝光面，用以与所述第1曝光装置的光照射角度不同的角度倾斜的光照射角度照射光；

掩模，具有与所述第1曝光装置以及第2曝光装置所曝光的各个分割区域对应的掩模图案；及

聚光机构，对所述第2曝光装置通过所述掩模图案的透射光进行聚光并照射于所曝光的分割区域，

所述聚光机构沿着所述掩模图案的边缘配置有多个单透镜。

3.根据权利要求1或2所述的光取向曝光装置，其特征在于，

所述光取向曝光装置具备基板扫描机构，其沿着多个所述单位图像区域的排列方向且沿着所述分割区域的分割线扫描具有所述单位图像区域的基板，

沿着所述基板扫描机构的扫描方向，隔开间隔配置多个所述曝光装置，

多个所述曝光装置以沿着所述扫描方向的方向且相对于被曝光面不同的角度照射光。