[发明专利]掩模单元和蒸镀装置

说明书

技术领域

本发明涉及包括掩模单元的蒸镀装置，该掩模单元包括蒸镀掩模和用于保持蒸镀掩模的蒸镀掩模保持部件。

背景技术

近年来，在各种商品和领域有效利用平板显示器，要求平板显示器的进一步的大型化、高画质化、低消耗电力化。

这种状况下，具有利用有机材料的电致发光(Electroluminescence，以下记作“EL”)的有机EL元件的有机EL显示装置，作为在全固体型且低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优秀的平板显示器，备受瞩目。

有机EL显示装置例如具有以下结构：在由设置有TFT(薄膜晶体管)的玻璃基板构成的基板上，设置有与TFT连接的有机EL元件。

有机EL元件，是能够利用低电压直流驱动的高亮度发光的发光元件，具有依次层叠第一电极、有机EL层和第二电极的结构。其中，第一电极与TFT连接。另外，在第一电极与第二电极之间，作为上述有机EL层，设置有层叠了空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等的有机层。

全彩的有机EL显示装置，一般将红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各色的有机EL元件作为子像素在基板上排列形成，利用TFT使这些有机EL元件有选择地以期望的亮度发光，由此进行图像显示。

这种有机EL显示装置的发光部中的有机EL元件，一般由有机膜的层叠蒸镀形成。有机EL显示装置的制造中，至少由发出各色光的有机发光材料构成的发光层，按每个作为发光元件的有机EL元件以规定的图案成膜。

层叠蒸镀的规定图案的成膜中，除了能够使用例如被称为荫罩(Shadow mask)的蒸镀掩模的蒸镀法以外，还能够使用喷墨法、激光转印法等。其中，当前使用蒸镀掩模的真空蒸镀法是最常用的(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本公开专利公报《特开2006-164815号公报(公开日：2006年6月22)》

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，像这样在使用蒸镀掩模进行蒸镀的情况下，当基板尺寸变大时，随之蒸镀掩模也变大。

其结果是，因蒸镀掩模的自重导致的挠曲和延伸，会发生蒸镀掩模的翘曲现象，在蒸镀所使用的被成膜基板与蒸镀掩模之间产生间隙。

图13是表示现有的蒸镀掩模的挠曲导致的问题点的截面图。图13示意性地表示现有的蒸镀装置内部的主要构成要素的概略结构。

如图13所示，使用蒸镀掩模301的蒸镀中，在与被成膜基板200相反的一侧配置有蒸镀源310，蒸镀源310与被成膜基板200之间隔着蒸镀掩模301。

有机发光材料等蒸镀材料，在高真空下加热、升华，由此作为蒸镀颗粒从蒸镀源310出射。

在使用了蒸镀掩模301的蒸镀中，如图13所示，在蒸镀掩模301设置有与蒸镀区域的一部分的图案对应的开口部302，经由该开口部302使蒸镀颗粒蒸镀到被成膜基板200上由此进行图案形成，以使得作为目标的蒸镀区域以外的区域不附着蒸镀颗粒。

作为蒸镀颗粒从蒸镀源310出射的蒸镀材料，通过设置于蒸镀掩模301的开口部302被蒸镀到被成膜基板200。

由此，仅在与开口部302对应的被成膜基板200的规定的位置，蒸镀形成具有期望的成膜图案的有机膜作为蒸镀膜。另外，有机EL蒸镀工艺的发光层的蒸镀，按发光层的每个颜色进行(将之称为“分别涂敷蒸镀”)。

在这样的蒸镀工艺中，在被成膜基板200使用大型基板的情况下，伴随被成膜基板200的大型化蒸镀掩模301也大型化，由此如图13的二点划线所示，在蒸镀掩模301发生自重导致的挠曲。

从蒸镀源310射出的蒸镀颗粒，呈放射状地飞散而蒸镀到被成膜基板200。此时，蒸镀颗粒从蒸镀源310具有角度地飞散，所以蒸镀掩模301的挠曲导致的高度方向的位置偏移，呈现横向的位置偏移。

因此，当蒸镀掩模301发生挠曲时，如图13的二点划线所示，在蒸镀源310的正上方的位置P1不发生蒸镀位置的偏移，而在从蒸镀源310离开的位置P2、P3蒸镀位置发生偏移。

因此，在例如如上所述RGB分别涂敷方式的大型有机EL蒸镀工艺中，当蒸镀掩模301发生挠曲时，蒸镀位置精度降低，不能进行位置精度高的图案形成，会发生蒸镀位置偏移或混色，难以实现高精细化。

另外，这样的问题在使用与被成膜基板200同等尺寸的蒸镀掩模作为蒸镀掩模301的情况下显得更加显著。