[发明专利]用于光刻术的量测

权利要求书

1.一种测量光刻过程的参数的方法，所述方法包括步骤：

(a)使用所述光刻过程以形成在横跨衬底的多个部位处分布且具有重叠的周期结构的多个目标结构，所述重叠的周期结构具有横跨所述目标结构分布的至少三个不同的重叠偏置值，所述目标结构中的至少一些包括多个重叠的周期结构，所述多个重叠的周期结构比所述至少三个不同的重叠偏置值少；

(b)照射所述目标结构和检测在由所述目标结构散射的辐射中的不对称度；

(c)使用所检测的不对称度来确定所述参数；

其中，使用所检测的不对称度来确定所述参数的步骤(c)以以下假定来执行：对于由于所述周期结构中的一个或更多个内的特征不对称度造成的整体不对称度的贡献对于所有的重叠值是恒定的；

其中使用所检测的不对称度来确定所述参数的步骤(c)包括使用在横跨衬底的不同部位处分布的并且具有三个或更多个不同的各个重叠偏置值的三个或更多个目标结构的所检测的不对称度、以通过使用所述三个不同的重叠偏置值的知识来确定所述参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中使用所检测的不对称度来确定所述参数的步骤(c)包括在重叠误差和不对称度之间的假定的非线性关系。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中使用所检测的不对称度来确定所述参数的步骤(c)包括使用横跨衬底的重叠误差的多参数模型。

4.根据权利要求3所述的方法，其中重叠误差的所述多参数模型包括表示平移、放大、旋转和衬底坐标的参数。

5.根据权利要求4所述的方法，其中重叠误差的所述多参数模型是至少六参数模型。

6.根据权利要求2所述的方法，其中，所述假定的非线性关系是正弦函数、或是彼此以谐波方式关联的正弦函数的组合。

7.根据权利要求2所述的方法，其中，使用所检测的不对称度来确定所述参数的步骤(c)以以下假定来执行：用于描述该假定的非线性关系的一个或更多个谐波比例常数是浮动的。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述不同的重叠偏置值所跨的范围大于所述周期结构的相应的节距的4％或10％。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述不同的重叠偏置值所跨的范围大于所述周期结构的相应的节距的15％或20％。

10.一种用于测量光刻过程的参数的检查设备，所述检查设备包括：

用于衬底的支撑件，所述衬底具有在横跨衬底的多个部位处分布且具有重叠的周期结构的多个目标结构，所述重叠的周期结构具有横跨所述目标结构分布的至少三个不同的重叠偏置值，所述目标结构中的至少一些包括比所述至少三个不同的重叠偏置值少的多个重叠的周期结构；

光学系统，用于照射目标结构和检测由所述目标结构散射的辐射中的不对称度；

处理器，布置成使用所检测的不对称度来确定所述参数；

其中，所述处理器布置成以以下假定使用所检测的不对称度来确定所述参数：对于由于所述周期结构中的一个或更多个内的特征不对称度造成的整体不对称度的贡献对于所有的重叠值是恒定的；

其中所述处理器布置成通过使用在横跨衬底的不同部位处分布且具有三个或更多个不同的各个重叠偏置值的三个或更多个目标结构的所检测的不对称度、以通过使用所述三个不同的重叠偏置值的知识确定所述参数，来使用所检测到的不对称度确定所述参数。

11.根据权利要求10所述的检查设备，其中所述处理器布置成通过包括在重叠误差和不对称度之间的假定的非线性关系来使用所检测的不对称度确定所述参数。

12.根据权利要求10或11所述的检查设备，其中，所述处理器布置成通过使用横跨衬底的重叠误差的多参数模型来使用所检测的不对称度确定所述参数。

13.根据权利要求12所述的检查设备，其中重叠误差的所述多参数模型包括表示平移、放大、旋转和衬底坐标的参数。

14.根据权利要求13所述的检查设备，其中重叠误差的所述多参数模型是至少六参数模型。

15.根据权利要求11所述的检查设备，其中，所述假定的非线性关系是正弦函数、或是彼此以谐波方式关联的正弦函数的组合。