[发明专利]用于在真空处理过程中使用的组件

权利要求书

1.一种用于在真空处理过程中使用的组件，所述组件包括：过程室，所述过程室定位有材料蒸发源、溅射源或等离子体源的形式的至少一个过程部件；以及用于被处理的对象的接纳位置，所述组件还包括：用于监视和/或控制所述过程室内的真空处理过程的气体分析装置，所述气体分析装置包括用于基于小型质谱仪或小型等离子体源设计来分析气体的测量装置，所述测量装置包括用于被分析的气体的接纳区域，在所述接纳区域中，气体能够被调节以允许对气体的分析；以及用于安装所述气体分析装置使得所述接纳区域与完全在所述过程室内的过程部件相邻的安装装置。

2.根据权利要求1所述的组件，其特征在于，多个测量装置被提供，所述多个测量装置中的每个测量装置彼此间隔开并且被完全定位在所述过程室内。

3.根据权利要求1或2所述的组件，其特征在于，所述气体分析装置的一部分被定位在所述过程室之外。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的组件，其特征在于，所述测量装置基于如下小型化质谱仪，该小型化质谱仪包括：用于将气体转换成带电粒子的电离源；用于通过质量来分选所得到的离子的至少一个质量分析器；提供被传感器电子器件使用来确定质量和丰度的经放大的信号的至少一个离子检测器；以及控制电子器件。

5.根据权利要求4所述的组件，其特征在于，所述质谱仪包括现场总线通信接口。

6.根据权利要求4或5所述的组件，其特征在于，所述质谱仪包括由粗真空泵和/或高真空泵构成的小型化泵组。

7.根据权利要求4至6中的任一项所述的组件，其特征在于，所述电离源是电阻式加热灯丝电子电离源、彭宁离子源、空心阴极彭宁离子源、辉光放电离子源、基于场致发射(例如使用碳纳米管)的电子电离源或激光束中的任一种。

8.根据权利要求4至7中的任一项所述的组件，其特征在于，所述质量分析器基于四极离子阱、圆柱形离子阱、线性离子阱、直线离子阱、环形离子阱、晕离子阱或双聚焦质谱仪设计中的任一种，包括上面提到的设计的混合变化。

9.根据权利要求4至8中的任一项所述的组件，其特征在于，所述离子检测器包括电子倍增器或微通道板倍增器。

10.根据权利要求4至9中的任一项所述的组件，其特征在于，所述质谱仪在传统的MS或串联MS/MS质谱分析模式下工作。

11.根据权利要求4至10中的任一项所述的组件，其特征在于，所述质谱仪是包括多于一组的样品入口、电离源、离子迁移光学器件、质量分析器和离子检测器的复用式质谱仪。

12.根据权利要求4至11中的任一项所述的组件，其特征在于，所述质谱仪在其中一个或多个所选择的质荷比的离子被检测和监视的质量选择性监视模式下工作。

13.根据权利要求1至3中的任一项所述的组件，其特征在于，所述测量装置是如下小型化等离子体源，该小型化等离子体源包括：用于检测由所述等离子体源中的等离子体发射的光辐射的至少一个检测器；用于分析发射光谱的器件；以及控制电子器件。

14.根据权利要求13所述的组件，其特征在于，传感器装置包括现场总线通信接口。

15.根据权利要求13或14所述的组件，其特征在于，所述等离子体源是电感耦合等离子体源。

16.根据权利要求13至15中的任一项所述的组件，其特征在于，所述等离子体源包括平面螺旋形线圈。

17.根据权利要求16所述的组件，其特征在于，所述线圈被制造于印刷电路板上。

18.根据权利要求16或17所述的组件，其特征在于，所述线圈的直径在1毫米与30毫米之间。

19.根据权利要求16至18中的任一项所述的组件，其特征在于，所述线圈被安装在承载结构部件的大气侧，所述承载结构部件的一部分对于光谱的紫外部分、可见部分和/或红外部分中的光辐射而言是光学透明的，并且对于磁场和射频波而言是可透过的。

20.根据权利要求19所述的组件，其特征在于，所述承载结构部件的光学透明材料是石英、熔融硅石、蓝宝石或其它类型的玻璃中的任一种。