[发明专利]电池的制造方法以及电池无效

专利信息
申请号: 201380037211.6 申请日: 2013-05-08
公开(公告)号: CN104471751A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 池田博昭 申请(专利权)人: 丰田自动车株式会社
主分类号: H01M4/04 分类号: H01M4/04;H01M2/26;H01M4/66;H01M10/052;H01M10/0566;H01M10/058
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;舒艳君
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电池 制造 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种电池的制造方法,

该电池具有电极板与电解液,该电极板具有铜箔与形成在该铜箔的表背的主面上的一部分的活性物质层,

所述铜箔在其所述主面中的、之上存在所述活性物质层的层形成部位,不具有铜氧化的氧化被膜或者具有铜氧化的厚度为5.0nm以下的活性物质下氧化被膜,

所述铜箔在所述主面中的自身露出的露出部位具有比所述层形成部位厚的、铜氧化的露出氧化被膜,

其中,

所述电池的制造方法具有如下工序:

活性物质层形成工序,在所述主面的整体不具有铜氧化的氧化被膜或者具有铜氧化的厚度为5.0nm以下的氧化被膜的铜箔中的、所述层形成部位之上形成所述活性物质层;

被膜形成工序,在所述活性物质层形成工序之后,使所述铜箔中的所述露出部位氧化,在该露出部位形成所述露出氧化被膜;

注液工序,在所述被膜形成工序之后,向所述电池内注入所述电解液;以及

初充电工序,在所述注液工序之后,对所述电池进行初充电。

2.根据权利要求1所述的电池的制造方法,其中,

所述被膜形成工序为形成厚度6.0nm以上的所述露出氧化被膜的工序。

3.根据权利要求2所述的电池的制造方法,其中,

所述被膜形成工序为形成厚度17.0nm以下的所述露出氧化被膜的工序。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的电池的制造方法,其中,

所述被膜形成工序为在大气气氛下以80~110℃持续10~180分钟至少对所述铜箔的所述露出部位加热的工序。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的电池的制造方法,其中,

所述电池具有焊接于所述电极板中的所述铜箔的所述露出部位的端子部件,

所述电池的制造方法具有端子焊接工序,在所述被膜形成工序之前,在所述铜箔的所述露出部位焊接所述端子部件。

6.一种电池,

该电池具有:

电极板,该电极板具有铜箔与形成在该铜箔的表背的主面上的一部分的活性物质层;以及

电解液,

其中,

所述铜箔在其所述主面中的、之上存在所述活性物质层的层形成部位,不具有铜氧化的氧化被膜或者具有铜氧化的厚度为5.0nm以下的活性物质下氧化被膜,

所述铜箔在所述主面中的、自身露出的露出部位具有比所述层形成部位厚的、铜氧化的露出氧化被膜。

7.根据权利要求6所述的电池,其中,

所述露出氧化被膜的厚度为6.0nm以上。

8.根据权利要求7所述的电池,其中,

所述露出氧化被膜的厚度为17.0nm以下。

9.根据权利要求6~8中任一项所述的电池,其中,

所述电池具有焊接于所述电极板中的所述铜箔的所述露出部位的端子部件,

所述露出氧化被膜在所述端子部件与所述铜箔的焊接后形成。

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