[发明专利]使用193nm激光器的固态激光器及检验系统

权利要求书

1.一种用于产生大约193.368nm波长光的激光器系统，所述激光器系统包括：

基谐波激光器，其经配置以产生具有大约1064nm的对应波长的基谐波频率；

光学参数OP模块，其经配置以降频转换所述基谐波频率且产生OP输出，所述OP输出为所述基谐波频率的一半谐波；

五次谐波产生器模块，其经配置以使用所述OP模块的未消耗基谐波频率以产生五次谐波频率；以及

混频模块，其用于组合所述五次谐波频率与所述OP输出以产生具有所述大约193.368nm波长光的激光器输出。

2.根据权利要求1所述的激光器系统，其中所述基谐波激光器包含掺镱光纤激光器。

3.根据权利要求1所述的激光器系统，其中所述基谐波激光器包含Q切换激光器、锁模激光器及连续波CW激光器中的一者。

4.根据权利要求1所述的激光器系统，其中所述基谐波激光器包含掺钕钇铝石榴石激光介质、掺钕钒酸钇激光介质或钒酸钆与钒酸钇的掺钕混合物。

5.根据权利要求1所述的激光器系统，其中所述OP模块包含产生大约2127nm波长或大约2109.7nm波长的光的种子激光器。

6.根据权利要求1所述的激光器系统，其中所述OP模块包含激光器二极管或光纤激光器。

7.根据权利要求1所述的激光器系统，其中所述五次谐波产生器模块包含：

二次谐波产生器，其经配置以使所述基谐波频率加倍且产生二次谐波频率；

四次谐波产生器，其经配置以使所述二次谐波频率加倍且产生四次谐波频率；以及

五次谐波产生器，其经配置以组合所述四次谐波频率与所述二次谐波产生器的未消耗基谐波频率以产生所述五次谐波频率。

8.根据权利要求1所述的激光器系统，其中所述五次谐波产生器模块包含：

二次谐波产生器，其经配置以使所述基谐波频率加倍且产生二次谐波频率；

三次谐波产生器，其经配置以组合所述二次谐波频率与所述二次谐波产生器的未消耗基谐波频率以产生三次谐波频率；以及

五次谐波产生器，其经配置以组合所述三次谐波频率与所述三次谐波产生器的未消耗二次谐波频率以产生所述五次谐波频率。

9.一种用于产生大约193.368nm波长光的激光器系统，所述激光器系统包括：

基谐波激光器，其经配置以产生具有大约1064nm的对应波长的基谐波频率；

五次谐波产生器模块，其经配置以使用所述基谐波频率以产生五次谐波频率；以及

光学参数OP模块，其经配置以降频转换所述五次谐波产生器模块的未消耗基谐波频率且产生OP输出，所述OP输出为所述基谐波频率的一半谐波；

混频模块，其用于组合所述五次谐波频率与所述OP输出以产生具有所述大约193.368nm波长光的激光器输出。

10.根据权利要求9所述的激光器系统，其中所述基谐波激光器包含掺镱光纤激光器。

11.根据权利要求9所述的激光器系统，其中所述基谐波激光器包含Q切换激光器、锁模激光器及连续波CW激光器中的一者。

12.根据权利要求9所述的激光器系统，其中所述基谐波激光器包含掺钕钇铝石榴石激光介质、掺钕钒酸钇激光介质或钒酸钆与钒酸钇的掺钕混合物。

13.根据权利要求9所述的激光器系统，其中所述五次谐波模块包含：

二次谐波产生器，其经配置以使所述基谐波频率加倍且产生二次谐波频率；

四次谐波产生器，其经配置以使所述二次谐波频率加倍且产生四次谐波频率；以及

五次谐波产生器，其经配置以组合所述四次谐波频率与所述二次谐波产生器的未消耗基谐波频率以产生所述五次谐波频率。

14.根据权利要求9所述的激光器系统，其中所述五次谐波产生器模块包含：

二次谐波产生器，其经配置以使所述基谐波频率加倍且产生二次谐波频率；

三次谐波产生器，其经配置以组合所述二次谐波频率与所述二次谐波产生器的未消耗基谐波频率以产生三次谐波频率；以及

五次谐波产生器，其经配置以组合所述三次谐波频率与所述三次谐波产生器的未消耗二次谐波频率以产生所述五次谐波频率。