[发明专利]包括光学距离测量系统的用于微光刻的投射曝光设备

权利要求书

1.一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件，并且包含距离测量系统(30,130,230)，用于测量所述多个光学组件中的至少一个光学组件与参考元件(40,140,240)之间的距离，其中，所述距离测量系统包含频率梳发生器(32,132,232)，所述频率梳发生器构造成产生具有梳状频谱的电磁辐射(36,236)，在所述投射曝光设备中形成测量光束路径，所述测量光束路径在多个光学组件上延伸，使得在各个被作用的光学组件上，测量辐射(36)的相应部分(36b)被反射回所述距离测量系统(30)。

2.一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件，并且包含距离测量系统(30,130,230)，用于测量所述多个光学组件中的至少一个光学组件与参考元件(40,140,240)之间的距离，其中，所述距离测量系统包含频率梳发生器(32,132,232)，所述频率梳发生器构造成产生具有梳状频谱的电磁辐射(36,236)，其中，要测量的至少一个光学组件具有探针元件(44)，所述探针元件构造成将入射测量辐射(36a)的相应部分(36b)反射回其本身，并将入射测量辐射的另一部分(36c)反射到所述光学组件的另一个上。

3.一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包含形成曝光光束路径的多个光学组件，并且包含距离测量系统(30,130,230)，用于测量所述多个光学组件中的至少一个光学组件与参考元件(40,140,240)之间的距离，其中，所述距离测量系统包含频率梳发生器(32,132,232)，所述频率梳发生器构造成产生具有梳状频谱的电磁辐射(36,236)，其中，曝光光束路径构造成引导曝光辐射，并且其中，测量的至少一个光学组件包括用于曝光辐射的反射镜表面和布置在反射镜表面一侧在所述测量的至少一个光学组件的边缘区域的探针元件(44)，以借助该光学距离测量系统产生的电磁辐射进行照射。

4.如权利要求1、2或3所述的投射曝光设备，

其中，所述距离测量系统(30,130,230)构造成关于位于所述光学组件上的多个测量点测量至少一个光学组件和所述参考元件(40,140,240)之间的距离，并且所述距离测量系统(30,130,230)还包含评估装置，所述评估装置构造成根据所述测量确定所述光学组件关于所述参考元件在多个自由度中的位置。

5.如权利要求1、2或3所述的投射曝光设备，

其中，所述距离测量系统(30,130,230)构造成监控所述至少一个光学组件的振动行为。

6.如权利要求1、2或3所述的投射曝光设备，

其中，所述频率梳发生器(32,132,232)包含脉冲式飞秒激光器。

7.如权利要求1、2或3所述的投射曝光设备，

其中，所述频率梳发生器(32)构造成产生具有梳状频率梳的脉冲测量辐射(36)，所述距离测量系统(30)包含另一频率梳发生器(34)，所述另一频率梳发生器构造成产生同样具有梳状频谱的脉冲比较辐射(35)，其中，所述比较辐射(35)的脉冲率与所述测量辐射(36)的脉冲率不同。

8.如权利要求7所述的投射曝光设备，

其中，所述参考元件(40)构造成将参考辐射(41)从所述测量辐射(36)分开，所述距离测量系统(30)还包含：

-照射装置(31)，用于以测量辐射(36)照射要测量的至少一个光学组件；

-叠加元件(42)，用于在所述测量辐射与至少一个被照射组件交互作用之后，将所述比较辐射(35)与所述参考辐射(41)和所述测量辐射(36)叠加；以及

-检测装置(43)，构造成记录所述叠加的强度的时间轮廓，并且根据检测的强度的时间轮廓确定被照射组件和所述参考元件(40)之间的距离。