[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法在审
| 申请号： | 201380038855.7 | 申请日： | 2013-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN104508741A | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 饭泉京介;山口智行;田本宏一;岩间健太 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/73 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁盘 玻璃 制造 方法 | ||
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括以下工序：研磨工序，利用研磨液对玻璃基板的表面的至少一部分进行研磨，该研磨液包含以氧化锆为主要成分的磨粒作为研磨剂；和清洗工序，对所述研磨工序后的玻璃基板进行清洗；
在所述以氧化锆为主要成分的磨粒的表面的一部分形成有作为氧化锆以外的物质的非氧化锆物质，
在所述清洗工序中，使所述玻璃基板的经研磨的表面与可溶解所述非氧化锆物质的清洗液接触。
2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
在所述以氧化锆为主要成分的磨粒中，所述非氧化锆物质的微晶直径为10nm以上。
3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
在所述研磨工序中，按照研磨后的所述玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)为1.5nm以下的方式，对所述玻璃基板的主表面进行研磨。
4.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
在所述研磨工序中，按照研磨后的所述玻璃基板的端面的算术平均粗糙度(Ra)为50nm以下的方式，对所述玻璃基板的端面进行研磨。
5.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述非氧化锆物质为选自由氧化铈、氧化铁、二氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化铜以及氧化锰组成的组中的至少任一种物质。
6.如权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述非氧化锆物质为氧化铈，
所述清洗液含有氟离子。
7.如权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，
所述非氧化锆物质为氧化铁，
所述清洗液含有包含羧酸的酸和铁的2价离子。
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