[发明专利]环境扫描电子显微镜气体喷射系统

权利要求书

1.一种用于将气体提供在真空室中的工件表面处的设备，包括：

用于将所述气体集中在所述工件的护罩区域处的气体集中结构，所述气体集中结构具有用于使射束穿过至所述工件的孔口，所述护罩区域小于所述整个工件，所述孔口足够小以限制所述气体传导穿过所述孔口；

用于支承所述气体集中结构的气体集中结构支承部件，所述气体集中结构支承部件能够移动，以将所述气体集中结构定位成将所述气体集中在所述工件上的感兴趣区域附近；

用于将气体提供至所述气体集中结构内的所述空间的气体导管；以及

用于提供电性偏压来引起所述集中的气体的电离的阳极。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阳极包括所述气体集中结构的一部分或全部。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述阳极包括与所述气体集中结构分开的电极。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述导管包括所述气体集中结构内的中空部。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气体集中结构支承部件包括气体集中结构支承部件驱动机构，其提供沿纵轴线的运动来在未使用时从所述工件取回所述护罩。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括用于检测电子撞击所述护罩的电路，所述电子包括检测器信号。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气体集中结构的形状包括圆锥的一部分、球的一部分，或圆柱的至少一部分。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气体集中结构的至少一部分为中空的，并且与所述气体导管连通用于将气体从所述导管朝所述工件传导。

9.一种带电粒子束系统，包括：

带电粒子源；

工件真空室；

用于将来自所述带电粒子源的所述带电粒子聚焦到所述工件真空室中的工件上的聚焦透镜；

根据权利要求1的用于将气体提供在真空室中的样品表面处的设备。

10.根据权利要求9所述的带电粒子束系统，其特征在于，所述带电粒子源包括电子源。

11.根据权利要求9所述的带电粒子束系统，其特征在于，所述护罩适于定位在所述工件的表面上方，以提供所述护罩与所述工件表面之间的有限气流区域，以保持所述护罩内的较高压力。

12.根据权利要求9所述的带电粒子束系统，其特征在于，所述带电粒子束系统还包括具有台直径的样品台，所述护罩的一部分适于最接近具有对应于所述工件的护罩区域的直径的护罩直径的所述工件，所述护罩直径小于所述台直径的一半。

13.根据权利要求9所述的带电粒子束系统，其特征在于，所述气体集中器包括用于使所述带电粒子束穿过的孔口。

14.根据权利要求9所述的带电粒子束系统，其特征在于，所述气体集中器定位成不阻挡所述带电粒子束。

15.一种用于将集中气体提供在真空室中的工件表面处的设备，包括：

用于将集中气体提供在工件表面的一部分处的气体集中器，所述部分在真空室中小于所述整个表面；

用于将气体提供至所述气体集中器的气体导管；以及

用于提供关于样品表面的电性偏压的阳极，所述阳极加速电子来提供所述集中气体内的气体级联放大。

16.根据权利要求15所述的设备，其特征在于，所述阳极包括所述气体集中器的一部分。

17.根据权利要求15所述的设备，其特征在于，所述阳极包括与所述气体集中器分开的电极。

18.根据权利要求15所述的设备，其特征在于，所述气体集中器包括具有使所述初级射束穿过的孔口的护罩。

19.根据权利要求15所述的设备，其特征在于，所述气体集中器不包括护罩。