[发明专利]用于细颗粒测量设备的层流监控方法、细颗粒分析方法以及细颗粒测量设备

权利要求书

1.一种细颗粒测量设备中的层流监控方法，所述方法包括：

将光照射到层流的照射步骤；

通过检测器接收S偏振成分并且获取所述检测器中的所述S偏振成分的光接收位置信息的位置检测步骤，所述S偏振成分从由所述层流产生的散射光分离并被赋予像散；以及

基于所述光接收位置信息确定所述层流的状态的确定步骤，

其中，在所述位置检测步骤中，使用其光接收表面以格子形状被分为区域A、区域B、区域C和区域D四个区域的检测器作为所述检测器，并且

其中，获取在所述区域A和不相邻于所述区域A的所述区域C的检测值之间的差Δ1(A-C)作为所述光接收位置信息。

2.根据权利要求1所述的层流监控方法，其中，获取在所述区域A和所述区域C的检测值的和(A+C)与所述区域B和所述区域D的检测值的和(B+D)之间的差Δ2((A+C)-(B+D))作为所述光接收位置信息。

3.根据权利要求2所述的层流监控方法，其中，在所述确定步骤中，基于所述差Δ1和/或所述差Δ2来确定所述层流的状态。

4.根据权利要求3所述的层流监控方法，其中，在所述确定步骤中，当所述差Δ1和/或所述差Δ2偏离预定范围时，确定所述层流异常，并且当所述差Δ1和所述差Δ2包含在所述预定范围内时，确定所述层流正常。

5.根据权利要求4所述的层流监控方法，其中，在所述确定步骤中，当偏离所述预定范围的所述差Δ1和/或所述差Δ2的获取频率超过预定频率时，确定所述层流异常。

6.根据权利要求5所述的层流监控方法，其中，在所述位置检测步骤中，使用4分割光电二极管作为所述检测器。

7.一种细颗粒分析方法，包括：

检测从包含细颗粒的层流产生的光的光检测步骤；

基于在所述光检测步骤中获取的所述光的强度信息获得所述细颗粒的光学特性的分析结果的分析步骤；以及

执行根据权利要求4至6中任一项所述的层流监控方法的步骤，

其中，在所述分析步骤中，仅提取在所述层流被确定为正常时所获取的所述强度信息并且获得所述分析结果。

8.一种细颗粒测量设备，包括：

光照射单元，被配置为将光照射至层流；

第一分光元件，被配置为将从所述层流产生的散射光分为S偏振成分和P偏振成分；

S偏振检测器，被配置为接收所述S偏振成分；

像散元件，布置在所述第一分光元件与所述S偏振检测器之间并且被配置为将像散赋予所述S偏振成分；以及

确定单元，被配置为接收来自S所述偏振检测器的输出、获取所述S偏振成分的光接收位置信息、以及基于所述光接收位置信息确定所述层流的状态，

其中，在所述S偏振检测器中，光接收表面以格子形状分为区域A、区域B、区域C和区域D四个区域，并且

其中，所述确定单元获取在所述区域A和不相邻于所述区域A的所述区域C的检测值之间的差Δ1(A-C)作为所述光接收位置信息。

9.根据权利要求8所述的细颗粒测量设备，

其中，所述确定单元获取在所述区域A和所述区域C的检测值的和(A+C)与所述区域B和所述区域D的检测值的和(B+D)之间的差Δ2((A+C)-(B+D))作为所述光接收位置信息。

10.根据权利要求9所述的细颗粒测量设备，其中，所述确定单元基于所述差Δ1和/或所述差Δ2确定所述层流的状态。

11.根据权利要求10所述的细颗粒测量设备，其中，当所述差Δ1和/或所述差Δ2偏离预定范围时，所述确定单元确定所述层流异常，并且当所述差Δ1和所述差Δ2包含在所述预定范围内时，所述确定单元确定所述层流正常。

12.根据权利要求11所述的细颗粒测量设备，进一步包括：

输出单元，

其中，关于所述差Δ1和/或所述差Δ2的信息以图像形式显示在所述输出单元上。

13.根据权利要求12所述的细颗粒测量设备，其中，通过所述输出单元呈现所述确定单元的所述层流的异常确定。

14.根据权利要求13所述的细颗粒测量设备，其中，当所述确定单元确定所述层流异常时，所述细颗粒测量设备自动地停止。