[发明专利]用于热和/或动态涂覆系统的可移动掩模

权利要求书

1.一种用于涂覆系统(10)的具有覆盖装置(2)的掩模(1)，该覆盖装置用于覆盖待涂覆基片(20)的不被涂覆的区域，所述基片具有暴露在涂覆材料流中的工作侧面(21)，其特征在于，

用于不被涂覆的区域的覆盖装置(2)包括至少一个旋转圆盘(3)，该旋转圆盘的上侧面(31)垂直于涂覆材料流。

2.根据权利要求1所述的掩模(1)，其特征在于，该掩模用于热和/或动态涂覆系统(10)，特别地用于冷气动力喷涂系统。

3.根据权利要求1或2所述的掩模(1)，其特征在于，清洗装置(5)布置在每个旋转圆盘(3)的在远离所述基片(20)的侧面上。

4.根据权利要求1到3任一项所述的掩模(1)，其特征在于，布置两个反转圆盘(3)，该两个反转圆盘相互间隔使得存在涂覆间隙(4)。

5.根据权利要求4所述的掩模(1)，其特征在于，所述旋转圆盘(3)之间的涂覆间隙(4)在待产生的涂层(6)的宽度内容易调节。

6.根据权利要求1到5任一项所述的掩模(1)，其特征在于，至少一个旋转圆盘(3)具有用于选择性沉积的波纹或锯齿状外轮廓和/或开口(8)。

7.根据权利要求1到6任一项所述的掩模(1)，其特征在于，旋转圆盘(3)的表面对于喷涂材料具有差的粘附力。

8.根据权利要求7所述的掩模(1)，其特征在于，至少所述旋转圆盘(3)的表面包括钢、硬金属、陶瓷、玻璃、钻石状无定形碳、硬铬或石墨。

9.一种具有至少一个喷涂装置(11)的热和/或动态涂覆系统(10)，其特征在于，

—提供了一种线性地和连续地引导基片(20)的运输装置，所述基片在所述至少一个喷涂装置(11)下被涂覆，以及

—布置根据权利要求1到8任一所述具有覆盖装置(2)的掩模或连续旋转的带子掩模，所述覆盖装置(2)用于覆盖待涂覆基片(20)的不被涂覆的区域。

10.根据权利要求9所述的热和/或动态涂覆系统(10)，其特征在于，所述至少一个喷涂装置(11)是固定的。

11.根据权利要求9所述的热和/或动态涂覆系统(10)，其特征在于，所述至少一个喷涂装置(11)可垂直地和/或平行于基片通过方向(L)振荡。

12.根据权利要求9到11任一项所述的热和/或动态涂覆系统(10)，其特征在于，机械预处理装置(13)被布置位于喷涂装置(11)之前，如在带运动的方向(L)可以看到的。

13.根据权利要求9到12任一项所述的热和/或动态涂覆系统(10)，其特征在于，至少一个退火装置(14)被布置位于所述喷涂装置(11)后，如在基片通过方向(L)可以看到的。

14.根据权利要求9到13任一项所述的热和/或动态涂覆系统(10)，其特征在于，至少一个冷轧装置(15)被布置位于所述喷涂装置(11)后，如在基片通过方向(L)可以看到的。

15.根据权利要求9到14任一项所述的热和/或动态涂覆系统(10)，其特征在于，铣削装置(16)被布置位于所述喷涂装置(11)后，如在带运动方向可以看到的。

16.一种用于通过热和/或动态涂覆系统(10)生产涂覆的基片(20)的方法，其特征在于以下步骤：

—可选地预处理基片(20)的工作侧面(21)；

—在喷涂装置(11)下线性和持续引导基片(20通过)，其中，通过包括至少一个旋转圆盘(3)的掩模(1)，该旋转圆盘的上侧面垂直于涂层材料流，或通过在喷射流(12)的区域内连续旋转带子掩模，基片(20)的工作侧面(21)被局部地覆盖以及仅局部地沉积；

—可选地在每种情况下，至少一个退火，至少一个冷轧以及铣削被应用于基片(20)的涂层(6)。