[发明专利]定影构件、其制造方法、定影设备和图像形成设备

权利要求书

1.一种定影构件，其包括：基材，设置在所述基材的表面上的弹性层，和表面层，其特征在于：

所述表面层

含有具有由以下结构式(1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物，并

具有由在润湿张力为31.0mN/m的润湿张力试验用混合液中测量的67度以上的接触角的表面，

[化学式1]

2.根据权利要求1所述的定影构件，其中所述表面层为通过在无氧存在下，在所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的熔点附近的温度下使用电离性放射线照射含有所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的层，之后在所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的熔点以上加热所得物而制造的表面层。

3.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述弹性层含有硅橡胶。

4.根据权利要求1-3任一项所述的定影构件，其中所述基材含有选自由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺和聚醚砜组成的组的至少一种树脂。

5.根据权利要求1-3任一项所述的定影构件，其中所述基材含有镍或不锈钢。

6.根据权利要求1-5任一项所述的定影构件，其中所述基材的厚度为20-60μm。

7.一种定影设备，其特征在于，其包括根据权利要求1-6任意一项所述的定影构件、所述定影构件的加热装置和与所述定影构件相对配置的加压构件。

8.一种图像形成设备，其特征在于，其设置有根据权利要求7所述的定影设备。

9.一种定影构件的制造方法，所述定影构件包括：

基材，

设置在所述基材的表面上的弹性层，和

含有具有由以下结构式(1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的表面层，

其特征在于，所述方法包括通过以下步骤(1)-(3)形成所述表面层的步骤：

(1)将在所述弹性层的表面上形成的、含有未交联四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的温度调整在所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的玻璃化转变点Tg以上且比所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的熔点Tm高30℃的温度Tm+30℃以下的温度范围内，

(2)在氧浓度为1000ppm以下的气氛下，用电离性放射线照射温度在所述步骤(1)中调整的温度范围内的含有四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的表面，以在所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物中形成由以下结构式(1)表示的部分结构，和

(3)将从所述步骤(2)得到的、所述含有具有由以下结构式(1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的温度调整在340℃以上且380℃以下的温度范围内，

[化学式2]

10.根据权利要求10所述的定影构件的制造方法，其中

所述步骤(1)中，将所述含有四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的温度调整在所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的玻璃化转变点Tg以上且比所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的熔点Tm低60℃的温度Tm–60℃以下的温度范围内。

11.根据权利要求9或10所述的定影构件的制造方法，其中

所述步骤(3)中，将所述含有具有由结构式(1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的温度在340℃以上且380℃以下的温度范围内维持5分钟以上。

12.根据权利要求11所述的定影构件的制造方法，其中

所述步骤(3)中，将所述含有具有由结构式(1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的温度维持在340℃以上且380℃以下的温度范围内的时间为10分钟以上且20分钟以下。