[发明专利]激光印标组合物和相关方法

权利要求书

1.一种组合物，其用于经激光辐射后在玻璃底物上形成印标，所述组合物包含：

至少一种载体，所述载体选自水基液体、有机溶剂及其组合；

吸收剂化合物，其选自复合无机化合物、锆化合物、硅化合物、钙化合物及其组合组成的群组；且

其中吸收剂化合物具有的平均粒径为0.1微米-10微米；

其中将所述组合物应用至玻璃底物上，并暴露于激光时，所述组合物吸收辐射能量，升高温度，与玻璃底物化学键合，形成与玻璃底物相比具有亮度、色值、或不透明度视觉对比的印标。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述吸收剂化合物具有的平均粒径为4微米-6微米。

3.根据权利要求1所述的组合物，其中所述吸收剂化合物包括：

10wt％-50wt％的复合无机化合物；

5wt％-30wt％的锆化合物；

5wt％-25wt％的硅化合物；和

5wt％-25wt％的钙化合物。

4.一种组合物，其用于经激光辐射后在陶瓷底物上形成印标，所述组合物包含：

至少一种载体，所述载体选自水基液体、有机溶剂及其组合；

吸收剂化合物，其选自复合无机化合物、锆化合物、硅化合物及其组合组成的群组；且

其中吸收剂化合物具有的平均粒径为0.1微米-10.0微米；

其中将所述组合物应用至陶瓷底物上，并暴露于激光时，所述组合物吸收辐射能量，升高温度，与陶瓷底物化学键合，形成与陶瓷底物相比具有亮度、色值、或不透明度视觉对比的印标。

5.根据权利要求4所述的组合物，其中所述吸收剂化合物具有的平均粒径为0.8微米-5微米。

6.根据权利要求4所述的组合物，其中所述组合物进一步包括：

10wt％-50wt％的复合无机化合物；

5wt％-30wt％的锆化合物；和

5wt％-25wt％的硅化合物。

7.根据权利要求4所述的组合物，其中进一步包括附加的组分，所述附加的组分选自复合无机金属氧化物、金属氧化物遮光剂、玻璃浆料、玻璃浆料前体及其组合组成的群组。

8.根据权利要求7所述的组合物，其中所述组合物进一步包括：

10wt％-40wt％的玻璃浆料；

10wt％-50wt％的复合无机金属氧化物；

3wt％-15wt％的金属氧化物遮光剂；和

25wt％-45wt％的至少一种载体。

9.根据权利要求7所述的组合物，其中所述组合物包括复合无机金属氧化物，所述复合无机金属氧化物选自复合无机蓝金属氧化物、复合无机黑金属氧化物、复合无机红金属氧化物、复合无机黄金属氧化物、复合无机绿金属氧化物、复合无机棕金属氧化物、复合无机橙金属氧化物及其组合。

10.根据权利要求7所述的组合物，其中所述组合物包括至少一种玻璃浆料，其中所述至少一种玻璃浆料选自碱金属氧化物、碱土金属氧化物、二氧化硅、氧化硼、过渡金属氧化物及其组合。

11.根据权利要求7所述的组合物，其中所述组合物包括至少一种玻璃浆料前体，所述至少一种玻璃浆料前体包括选自二氧化硅、氧化锌、氧化铋、硼酸钠、碳酸钠、长石、氟化物及其组合的化合物。

12.一种组合物，其用于经激光辐射后在金属底物上形成印标，所述组合物包含：

至少一种载体，所述载体选自水基液体、有机溶剂及其组合；

吸收剂化合物，其选自钼化合物、钒化合物、硅化合物及其组合组成的群组；且

其中吸收剂化合物具有的平均粒径为0.1微米-10.0微米；

其中将所述组合物应用至金属底物上，并暴露于激光时，所述组合物吸收辐射能量，升高温度，与金属底物化学键合，形成与金属底物相比具有亮度、色值、或不透明度视觉对比的印标。

13.根据权利要求12所述的组合物，其中所述吸收剂化合物具有的平均粒径为5微米-10微米。

14.根据权利要求12所述的组合物，其中所述组合物进一步包括：

10wt％-50wt％的钼化合物；

5wt％-25wt％的钒化合物；和

3wt％-20wt％的硅化合物。