[发明专利]用于对齐衬底的装置和方法

权利要求书

1.一种用于采用下列步骤使第一衬底(14)与第二衬底(14’)对齐并且相接触的方法：

- 将所述第一衬底(14)固定到第一容纳件(4)上并且将所述第二衬底(14’)固定到设置成与所述第一容纳件(4)相对的第二容纳件(5)上，其中，所述第一衬底和第二衬底(14，14’)以所述第一衬底(14)的第一接触面与所述第二衬底(14’)的第二接触面之间的间距A设置在所述第一容纳件与第二容纳件(4，5)之间，

- 由至少四个检测单元(3，3’，3”，3’”)来检测所述第一衬底(14)的第一标记(17)和所述第二衬底(14’)的第二标记(17’)，其中：

a) 至少两个第一检测单元(3，3”)能够至少沿X方向以及沿横向于所述X方向延伸的Y方向行进，以及

b) 至少两个第二检测单元(3’，3’”)在检测时仅仅沿横向于X和Y方向延伸的Z方向行进，

- 借助所述第一衬底(14)和所述第二衬底(14’)移动经过所述第一容纳件(4)和所述第二容纳件(5)，沿X方向和横向于所述X方向延伸的Y方向相对于所述第二衬底(14’)来对齐所述第一衬底(14)，以及

- 使已对齐衬底(14，14’)的接触面沿所述Z方向相接触。

2.如权利要求1所述的方法，其中，固定到所述第二容纳件(5)处的第二衬底(14’)能够仅仅沿Z方向行进。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述对齐在小于1巴的真空中进行。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述对齐在小于10^-3巴的真空中进行。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述对齐在小于10^-5巴的真空中进行。

6.如权利要求5所述的方法，其中，所述对齐在小于10^-7巴的真空中进行。

7.如权利要求6所述的方法，其中，所述对齐在小于10^-9巴的真空中进行。

8.如权 利要求1-7中的任一项所述的方法，其中，所述至少四个检测单元在所述对齐之前采用至少一个第一校准衬底(13)来校准。

9.如权利要求8所述的方法，其中，所述检测单元采用至少一个第一校准衬底(13) 再加上采用构造成与所述第一校准衬底(13)不同的第二校准衬底(13’) 来校准。

10.如权利要求8所述的方法，其中，所述第一校准衬底(13)用于校准能够设置成分别相对的检测单元的光轴和/或用于相对于所述第一校准衬底(13)来校准所述检测单元的景深。

11.如权利要求9所述的方法，其中，所述第二校准衬底(13’)用于相对于所述第一容纳件(4)上所述第一衬底(14)沿所述X方向和所述Y方向的移动来校准所述第一检测单元(3，3”)。

12.如权利要求1-7中的任一项所述的方法，其中，由控制装置来执行对所述第一衬底(14)和所述第二衬底(14’)借助于所述第一容纳件(4)和所述第二容纳件(5)的移动的控制和检测以及对所述至少四个检测单元(3，3’，3”，3’”)的移动的控制和检测以及对用于使已对齐衬底(14，14’)的接触面沿所述Z方向相接触的部件的移动的控制和检测。