[发明专利]将超导绕组支撑在电动机的转子中的装置有效
申请号: | 201380043493.0 | 申请日: | 2013-08-15 |
公开(公告)号: | CN104584404B | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | R.R.里科;R.L.墨菲 | 申请(专利权)人: | 西门子能量股份有限公司 |
主分类号: | H02K55/00 | 分类号: | H02K55/00;H02K3/34 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 曲莹 |
地址: | 美国佛*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超导 绕组 支撑 电动机 转子 中的 装置 | ||
1.一种用于支撑与电动机的转子芯处于间隔开的关系的至少一个超导绕组的装置,所述装置包含:
至少一个长形环路,其布置成向所述至少一个超导绕组提供径向支撑,所述长形环路包含对热流有抵抗性的材料;
轴向延伸的基部组件,其布置成在所述长形环路的近端处相对于所述转子芯锚定所述至少一个长形环路;
一组件,所述组件具有凹槽,以容纳所述至少一个超导绕组的至少一部分,并在所述长形环路的远端支撑所述长形环路,以及
布置成对所述至少一个超导绕组提供切向支撑的支撑结构,
其中,所述基部组件包括构成所述支撑结构的缓冲支撑结构。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述支撑结构包括布置为对所述至少一个超导绕组提供切向支撑的横向延伸环,所述横向延伸环包括对热流有抵抗性的材料。
3.根据权利要求1所述的装置,其中,所述组件包括支架和底座,所述底座布置成封闭所述凹槽的底侧,并且将所述超导绕组支撑在所述支架中。
4.根据权利要求3所述的装置,其中,所述基部组件包括至少一个支座,所述支座布置成,在转子的静止状态或包括所述转子的低的每分钟转数(RPM)的旋转状态期间,支撑所述底座。
5.根据权利要求4所述的装置,其中,所述支撑结构包括所述至少一个支座的延伸部。
6.根据权利要求5所述的装置,其中,所述至少一个支座以及所述至少一个支座的延伸部形成连续的缓冲支撑结构,所述缓冲支撑结构限定所述基部组件的周界的至少一部分。
7.根据权利要求1所述的装置,其中,所述缓冲支撑结构包括布置在所述基部组件的周界上的至少一个分立的缓冲器。
8.根据权利要求1所述的装置,其中,所述缓冲支撑结构包括第一缓冲器部分和第二缓冲器部分,所述第一缓冲器部分限定布置成在转子的静止状态或包含转子的低的每分钟转数(RPM)的旋转状态期间支撑支架的支座,所述第二缓冲器部分与至少第一环路共同为所述支架提供径向和切向支撑。
9.一种用于支撑与电动机的转子芯处于间隔开的关系的至少一个超导绕组的装置,该装置包括:
一组件,构造为限定出容纳所述超导绕组的凹槽;
至少一个长形环路,布置为对所述至少一个超导绕组提供径向支撑,所述长形环路包含对热流有抵抗性的材料,其中,所述组件布置为在所述长形环路的远端支撑至少第一环路;
轴向延伸的基部组件,布置为在所述长形环路的近端处相对于所述至少一个长形环路锚定所述转子芯;以及
支撑结构,与所述至少第一环路共同为所述组件提供径向和切向支撑。
10.根据权利要求9所述的装置,其中,所述支撑结构包括横向延伸的环路,所述横向延伸的环路布置为对所述至少一个超导绕组提供切向支撑,所述横向延伸的环路包含对热流有抵抗性的材料。
11.根据权利要求9所述的装置,其中,所述基部组件包括构成支撑结构的缓冲器支撑结构。
12.根据权利要求9所述的装置,其中,所述组件包括支架和底座,所述底座布置为封闭所述凹槽的底侧,并将所述超导绕组支撑在所述支架中。
13.根据权利要求12所述的装置,其中,所述基部组件包括至少一个支座,所述支座布置为在转子静止状态过程中或旋转状态过程中支撑所述底座,转子的旋转状态包含所述转子的低的每分钟转数(RPM)。
14.根据权利要求13所述的装置,其中,所述支撑结构包括所述至少一个支座的延伸部。
15.根据权利要求14所述的装置,其中,所述至少一个支座以及所述至少一个支座的延伸部形成连续的缓冲器支撑结构,所述缓冲器支撑结构限定出所述基部组件的周界的至少一部分。
16.根据权利要求11所述的装置,其中,所述缓冲器支撑结构包括布置在所述基部组件的周界的至少一个分立的缓冲器。
17.根据权利要求11所述的装置,其中,所述缓冲器支撑结构包括第一缓冲器部分和第二缓冲器部分,所述第一缓冲器部分限定出布置为在转子静止状态过程中或包含转子的低的每分钟转数(RPM)的旋转状态过程中支撑支架的支座,所述第二缓冲器部分与所述至少第一环路共同为所述支架提供径向和切向支撑。
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