[发明专利]微细结构体、光学构件、防反射膜和微细结构体制造方法

权利要求书

1.一种微细结构体，其包括在其表面上的多个锥体部，其特征在于：

所述锥体部具有介观结构；

所述介观结构包括具有形成介孔的壁部的结构；并且

构成所述壁部的物质为具有2.5eV以上且10eV以下的带隙的材料。

2.根据权利要求1所述的微细结构体，其中当所述锥体部的底边的长度由D表示并且所述锥体部的高度由H表示时，比率H/D为1/2以上。

3.根据权利要求1所述的微细结构体，其中所述锥体部具有50nm以上的高度。

4.根据权利要求1所述的微细结构体，其中彼此相邻的所述锥体部的前端之间的平均间隔p为400nm以下。

5.根据权利要求1所述的微细结构体，其中当彼此相邻的所述锥体部的前端之间的平均间隔由p表示并且所述前端之间的间隔的分布的标准偏差由σ表示时，满足以下表达式1，

0.1<σ/p<0.5表达式1。

6.根据权利要求1所述的微细结构体，其中所述介孔的内部为空隙。

7.根据权利要求1所述的微细结构体，其中所述介孔的内部存在有机材料和无机材料中的一种。

8.根据权利要求7所述的微细结构体，其中所述介孔的内部存在无机材料，并且所述无机材料包括硅氧化物、锆氧化物和钛氧化物中的任意一种。

9.根据权利要求1所述的微细结构体，其中所述介孔具有圆柱形状。

10.根据权利要求1所述的微细结构体，其中所述介孔周期性地配置，并且所述结构体在X射线衍射分析中显示对应于1.0nm以上的结构周期的衍射峰。

11.根据权利要求1所述的微细结构体，其中所述形成介孔的壁部用硅氧化物、锆氧化物和钛氧化物中的任意一种来形成。

12.一种防反射膜，其包括在表面上具有多个凸部的微细结构体，其特征在于：

所述凸部具有当通过与从所述凸部的底部至其前端的方向垂直的面切断所述凸部时的截面的面积沿所述方向减小的形状；和

所述微细结构体包括根据权利要求1-11任一项所述的微细结构体。

13.一种光学构件，其包括：基体；和在所述基体的表面上存在的防反射膜，

其特征在于：

所述防反射膜包括根据权利要求12所述的防反射膜；

彼此相邻的所述凸部的锥面彼此合并；并且

所述锥面彼此合并的位置存在于相对于所述基体的表面的所述防反射膜侧，并且所述锥面彼此合并的部分与所述基体之间的距离不恒定。

14.一种光学构件，其包括：基体；和在所述基体的表面上存在的防反射膜，

其特征在于：

所述防反射膜包括根据权利要求12所述的防反射膜；

所述防反射膜与所述基体接触的部分具有介观结构；和

当所述基体的折射率由na表示并且所述防反射膜与所述基体接触的部分的折射率由nb表示时，满足0≤|na-nb|≤0.05的关系。

15.一种微细结构体的制造方法，其特征在于，其包括：

形成具有介孔的介观结构材料；和

使所述介观结构材料用反应性气体进行等离子体蚀刻，从而在所述介观结构材料上形成多个凸部，所述凸部具有当通过与从其底部至其前端的方向垂直的面切断凸部时的截面的面积沿所述方向减小的形状。

16.根据权利要求15所述的微细结构体的制造方法，其中，在所述介观结构材料的表面上沉积具有构成等离子体蚀刻设备的蚀刻室的一部分的材料的物质的同时使所述介观结构材料进行等离子体蚀刻，以形成具有多个凸部的结构体，所述凸部具有当通过与从其底部至其前端的方向垂直的面切断所述凸部时的截面的面积沿所述方向减小的形状。

17.根据权利要求16所述的微细结构体的制造方法，其中：

所述具有介孔的介观结构材料的形成包括具有空隙介孔的介观结构材料的形成；和

所述方法进一步包括用有机材料和无机材料中的一种填充所述凸部的介孔。

18.根据权利要求15-17任一项所述的微细结构体的制造方法，其中：

所述具有介孔的介观结构材料的形成包括形成用具有介孔的介观结构材料形成的第一层，和在所述第一层的表面上形成由蚀刻速率小于所述第一层的材料形成的第二层；和

所述等离子体蚀刻包括使所述第二层在不使用掩膜的情况下进行第一等离子体蚀刻，以在所述第二层上形成多个凸部；和使所述第一层介由所述第二层的凸部进行第二等离子体蚀刻。