[发明专利]用于以光学方式将结构传输到记录介质中的方法有效
申请号: | 201380043823.6 | 申请日: | 2013-07-12 |
公开(公告)号: | CN104662477B | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | H.哈特德根;M.米库利茨 | 申请(专利权)人: | 于利奇研究中心有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 朱君,刘春元 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光学 方式 结构 传输 记录 介质 中的 方法 | ||
1.一种用于以光学方式将结构传输到记录介质中的方法,所述记录介质通过来自光子源的光子的照射能够局部地从第一未写状态转变为第二已写状态,其中所述记录介质的两种状态在所述记录介质的不同物理和/或化学特性中显现,其特征在于,选择至少一个具有少于每秒104个光子的光子流的光子源用于光子的照射。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光子源在工作周期中运行,在所述工作周期中所述光子源发射在1至100之间的数量个光子。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使所述光子源与所述记录介质的工作间隔是1μm或者更少。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光子源和所述记录介质相对彼此移动。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,选择如下记录介质,所述记录介质在超过预先确定的阈值量个光子时才局部地从未写状态转变到已写状态。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,对于光子平版印刷选择光致抗蚀剂作为记录介质。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,选择由多个可单独操控的光子源构成的装置。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在光栅中设置光子源,所述光栅具有100nm或者更小的光栅宽度。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述光栅具有50nm或者更小的光栅宽度。
10.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,运行每个光子源i的频率和/或持续时间xi确定为方程组的解,在所述方程组中,在所述记录介质上和/或所述记录介质中的每个位置k照射的光子量Dk表达为贡献dik(xi)的总和,其使每个光子源i承担该光子量Dk。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在所述方程组中,贡献dik(xi)表达为xi与从所述光子源i发射的单独光子到达所述记录介质上和/或所述记录介质中的位置k的概率pik的乘积。
12.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,由光子源构成的装置处于相对于所述记录介质的n个不同位置,并且Dk表达为贡献dikp(xip)的总和,该总和使在位置p=1…n的每个光子源i承担该光子量Dk。
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