[发明专利]处置差分相衬成像中的未对准

权利要求书

1.一种用于差分相衬成像的X射线成像系统(10)，包括：

-差分相衬设置(12)，其具有：

X射线源(14)；

X射线探测器(16)；以及

光栅布置，其包括源光栅(18)、相位光栅(20)和分析器光栅(22)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间；

-处理单元(24)；以及

-测量系统(26)，其用于确定所述光栅中的至少一个的未对准；

其中，所述X射线源和所述源光栅被提供为刚性X射线源单元(28)；并且其中，所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供为刚性X射线探测单元(30)；并且

其中，所述测量系统是光学测量系统，所述光学测量系统被配置为确定所述X射线源单元与所述X射线探测单元之间的所述差分相衬设置的未对准；

其中，所述处理单元被配置为基于所确定的未对准来提供校正信号(34)；

其中，所述测量系统包括在所述X射线探测单元的不同角处的至少三个传感器(36)；

其中，所述至少三个传感器被提供为至少三个4-象限光电二极管；

其中，光源设备被固定地附接到所述X射线源单元，所述X射线源单元被配置为生成到所述4-象限光电二极管中的每个的光束；并且

其中，所述4-象限光电二极管测量在所述探测器的平面中的移动以及相对于所述光束的角倾斜。

2.根据权利要求1所述的X射线成像系统，其中，所述至少三个传感器被提供为用于对光源设备的相位测量的干涉仪，所述光源设备被固定地附接到所述X射线源单元，所述X射线源单元被配置为生成到所述干涉仪中的每个的光束。

3.根据权利要求2所述的X射线成像系统，其中，所述光源被配置为以经调制的信号的形式来提供光信号；并且

所述干涉仪被配置为探测光相位位移；

其中，针对相位分析，以下项被提供：

i)相关单元，其被配置为使来自所有干涉仪的所述信号相关；和/或

ii)耦合单元，其被配置为将所述光耦合入所述角处的光纤并且通过干涉仪设置和/或定时分析单元来测量所述相位位移；和/或

iii)测量单元，其被配置为测量所述4-象限光电二极管的所述强度位移，并且使来自所有4-象限光电二极管的所述信号相关。

4.根据权利要求2或3所述的X射线成像系统，其中，所述光源设备被提供为生成单个射束的单个光源(42)；并且

其中，分裂模块(46)被提供用于将所述单个射束分裂为至少三个子射束。

5.根据权利要求1-3中的一项所述的X射线成像系统，其中，致动器(50)被提供用于对所述X射线源单元的至少一个光栅和/或所述X射线探测单元的至少一个光栅进行移动和对准；并且

其中，所述处理单元被配置为基于所述校正信号来计算针对所述致动器的激活信号，并且将所述激活信号传递到所述致动器。

6.根据权利要求5所述的X射线成像系统，其中，所述致动器被提供为：

i)压电致动器，和/或

ii)马达驱动的微米螺丝；

两者都提供在大约1微米直到大约10微米的范围中的移动。

7.根据权利要求1-3中的一项所述的X射线成像系统，

其中，校正单元(52)被提供用于校正由所述探测器提供的数据，以用于进一步的计算步骤；

其中，所述处理单元被配置为基于所述校正信号来计算校正系数；并且被配置为将所述校正系数传递到所述校正单元以用于评估计算，从而提供最终结果。