[发明专利]信息记录介质用玻璃基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及信息记录介质用玻璃基板的制造方法。

背景技术

在用于计算机等的信息记录介质(磁盘记录介质)中，以往以来一直使用铝基板或玻璃基板。在这些基板上形成磁性薄膜层，利用磁头使磁性薄膜层磁化，由此在磁性薄膜层中记录信息。

近年来，在硬盘驱动器(HDD)装置中，记录密度愈发高密度化。因记录密度的高密度化，信息记录介质(载体)与在信息记录介质上浮起而进行记录的读写的磁头的间隙(浮起高度)缩小至几nm左右。

随着浮起高度变小，在将信息记录介质用于硬盘驱动器装置中的情况下，容易发生访问记录于介质中的数据时的读取错误和/或写入错误、及磁头与介质表面碰撞的磁头碰撞等问题。

因此，信息记录介质用玻璃基板所要求的清洁性非常高，例如为了可靠地去除研磨材料、异物通过如下方式进行对应：在研磨工序后，与液体接触而容易去除附着物后进行擦洗(スクラブ洗浄)等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4623210号

发明内容

发明要解决的问题

但是，在对应630Gbit/inch²以上的面记录密度的下一代的信息记录介质用玻璃基板中，虽然在平滑性、清洁性方面不存在问题，但是在形成磁性薄膜层而作为信息记录介质的情况下，产生了电磁转换特性(SNR)降低、读取精度下降这样的问题。

对上述问题进行了彻底调查，结果可知：载体制造商为了进一步提高清洁性进行了在磁性膜形成前利用碱性溶液对信息记录介质用玻璃基板进行清洗从而将基板上的微小的颗粒去除这样的工序，在该工序中，玻璃成分略微溶出、表面状态发生了变化，因此之后，利用溅射等形成磁性薄膜层时的条件发生了偏差，产生了上述问题。

本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种信息记录介质用玻璃基板的制造方法，根据该制造方法，即使为了提高清洁性而在磁性膜形成前利用碱性溶液对信息记录介质用玻璃基板进行清洗，也能够抑制表面状态发生变化。

用于解决问题的手段

本发明涉及的信息记录介质用玻璃基板的制造方法为用于信息记录介质的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，该信息记录介质中，在玻璃基板的主表面上形成有磁性薄膜层，且磁性记录面中的记录密度为630Gbit/平方英寸以上。上述信息记录介质用玻璃基板的制造方法具备下述工序：精密研磨工序，其中，利用pH为4以下的酸性的含有胶态二氧化硅的研磨液对玻璃部件的主表面进行精密研磨；第1浸渍工序，其中，在所述精密研磨工序后，在溶液中浸渍5分钟以上；和超声波清洗工序，其中，在所述第1浸渍工序后对所述玻璃部件实施超声波清洗。在上述精密研磨工序中进行了精密研磨的玻璃部件的表面粗糙度Ra在1μm²的测定范围为以下。上述第1浸渍工序的溶液的pH为6.5以上8.5以下。

优选的是，在上述超声波清洗工序后进一步具备将玻璃部件在pH6.5以上8.5以下的溶液中浸渍5分钟以上的第2浸渍工序。优选的是，进一步具备下述工序：擦洗工序，其中，在上述超声波清洗工序后对玻璃部件实施擦洗；和第3浸渍工序，其中，在擦洗工序后在pH6.5以上8.5以下的溶液中浸渍5分钟以上。

优选的是，上述溶液的pH小于6.5时，进一步具备向溶液添加调节剂从而使pH为6.5以上8.5以下的工序。优选的是，上述第1浸渍工序的溶液的pH为7以上8以下。优选的是，所述第1浸渍工序中的浸渍时间为120分钟以下。

发明效果

根据本发明的信息记录介质用玻璃基板的制造方法，即使为了提高清洁性而在磁性膜形成前利用碱性溶液对信息记录介质用玻璃基板进行清洗，也可以制造能够抑制表面状态发生变化的信息记录介质用玻璃基板。

附图说明

图1是信息记录介质用玻璃基板1G的立体图。

图2是信息记录介质的立体图。

图3是示出玻璃基板1G和信息记录介质1的制造方法的流程图。

具体实施方式

以下对本发明的实施方式和实施例进行说明。对于相同或者相当的部分标注相同的参照标号，有时不再重复其说明。在以下说明的实施方式和实施例中，在提及个数、数量等的情况下，除了特别说明的情况以外，本发明的范围不一定限于该个数、数量等。在以下的实施方式中，除了特别说明的情况以外，各个构成要素对本发明不一定是必须的。

(信息记录介质1的构成)