[发明专利]具有集成的跟踪设置的介入引导系统

权利要求书

1.一种具有集成的跟踪的系统，包括：

流程特异性的硬件部件，其被设置在感兴趣区域(140)处或附近；

场生成器(114、214、314、414)，其被配置为生成具有覆盖所述感兴趣区域的视场的场；

安装设备(115)，其被连接到所述场生成器，并且被耦合到所述流程特异性的硬件部件；以及

跟踪设备(110)，其被配置为被插入在所述场生成器的所述视场之内的要被跟踪的所述感兴趣区域中或附近，以生成跟踪数据；

其中，所述流程特异性的硬件部件包括经由所述安装设备被耦合到所述场生成器的致动设备(116)，并且其中，所述场生成器通过所述安装设备和所述致动设备被固定地定位，以允许进入所述感兴趣区域的工作流程而不干扰所述场生成器，并且提供所述场生成器相对于所述感兴趣区域的已知位置。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述流程特异性的硬件部件包括被采用在短距离放射治疗流程中的网格(112)。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述场生成器(114)包括电磁(EM)场生成器，并且所述跟踪设备(110)包括电磁传感器。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述安装设备(115)包括刚性构件，所述刚性构件被配置为在流程期间将所述场生成器支撑并调节在不减少到所述感兴趣区域的进入的位置中。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述致动设备(116)包括步进器(116)，并且所述场生成器被安装在所述步进器上。

6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述场生成器(314)在至少两个方向上生成跟踪场，以同时在多个区域中提供视场。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述多个区域包括所述感兴趣区域和一个其他区域。

8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述场生成器包括被配置为在至少两个交叠的区域中生成跟踪场的多个部分。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述至少两个交叠的区域提供冗余的跟踪数据，以对所述跟踪设备进行定位。

10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述跟踪设备包括针(108)或导管(106)中的一种。

11.一种具有集成的跟踪的短距离放射治疗系统，包括：

网格(112)，其被采用在短距离放射治疗流程中，以用于将处置设备引导到感兴趣区域中或附近；

电磁(EM)场生成器(114、214、314、414)，其被配置为生成具有覆盖所述感兴趣区域的视场的电磁场；

安装设备(115)，其被连接到所述场生成器；

跟踪设备(110)，其包括电磁(EM)传感器，所述电磁传感器被配置为被插入在所述场生成器的所述视场之内的要被跟踪的所述感兴趣区域中或附近，以生成跟踪数据；以及

致动设备(116)，其被配置为移动成像探头，并且经由所述安装设备被耦合到所述场生成器，其中，所述场生成器通过所述安装设备和所述致动设备被固定地定位，以允许进入所述感兴趣区域的工作流程而不干扰所述场生成器，并且提供所述场生成器相对于所述感兴趣区域的已知位置。

12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述安装设备(115)包括刚性构件，所述刚性构件被配置为在流程期间将所述场生成器支撑并调节在不减少到所述感兴趣区域的进入的位置中。

13.根据权利要求11所述的系统，其中，所述致动设备包括步进器(116)。

14.根据权利要求11所述的系统，其中，所述场生成器(314)在至少两个方向上生成跟踪场，以同时在多个区域中提供视场。

15.一种用于具有集成的跟踪的系统的方法，其中，所述系统包括被设置在感兴趣区域处或附近的流程特异性的硬件部件、场生成器、安装设备和已被插入在所述场生成器的视场之内的所述感兴趣区域中或附近的跟踪设备，所述方法包括：

提供(502)所述场生成器，所述场生成器被配置为生成具有覆盖感兴趣区域的视场的场；并且

通过所述安装设备将所述场生成器安装(506)到所述流程特异性的硬件部件的致动设备，所述安装设备被连接到所述场生成器，并且被耦合到所述致动设备，所述场生成器通过所述安装设备和所述致动设备被固定地定位，以允许进入所述感兴趣区域而不干扰所述场生成器，并且提供所述场生成器相对于所述感兴趣区域的已知位置；

其中，所述跟踪设备被跟踪以生成针对所述跟踪设备的位置的跟踪数据。