[发明专利]离子阱中的离子选择方法及离子阱装置有效
申请号: | 201380046846.2 | 申请日: | 2013-09-06 |
公开(公告)号: | CN104641452B | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 小寺庆;狭间一 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | H01J49/42 | 分类号: | H01J49/42;G01N27/62 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 中的 选择 方法 装置 | ||
1.一种离子阱的离子选择方法,其特征在于,所述离子阱的离子选择方法是在被捕捉到由3个以上的电极组成的离子阱中的离子之中,选择具有特定的质荷比的离子或具有特定的质荷比范围的离子群的离子选择方法,所述离子阱的离子选择方法以下述顺序、下述顺序的相反顺序或同时来实施:
低质量侧离子分离步骤,对于被捕捉到所述离子阱中的离子,进行利用使离子在第一方向上振动的使用了规定的单一频率的激发电压的共振激发来排出一部分离子的离子排出操作,由此除去不需要的离子,其中,所述不需要的离子是具有低于作为选择对象的特定的质荷比或特定的质荷比范围的质荷比的离子;
高质量侧离子分离步骤,对于被捕捉到所述离子阱中的离子,进行利用使离子在与所述第一方向不同的第二方向上振动的使用了规定的单一频率的激发电压的共振激发来排出一部分离子的离子排出操作,由此除去不需要的离子,其中,所述不需要的离子是具有高于作为选择对象的特定的质荷比或特定的质荷比范围的质荷比的离子。
2.如权利要求1所述的离子阱的离子选择方法,其特征在于,
在所述低质量侧离子分离步骤和所述高质量侧离子分离步骤之前,实施粗分离步骤,其中,所述粗分离步骤是将包含作为选择对象的特定的质荷比和特定的质荷比范围的宽的质荷比范围的离子选择性地留在离子阱内,除去除此以外的不需要的离子的步骤,
对于进行了基于该粗分离步骤的离子选择的状态的离子,实施所述低质量侧离子分离步骤以及所述高质量侧离子分离步骤,
所述低质量侧离子分离步骤以高于所述粗分离步骤的分离能力,除去质荷比低于作为选择对象的特定的质荷比和特定的质荷比范围的离子,
所述高质量侧离子分离步骤以高于所述粗分离步骤的分离能力,除去质荷比高于作为选择对象的特定的质荷比和特定的质荷比范围的离子。
3.一种离子阱装置,所述离子阱装置是包含由3个以上的电极组成的离子阱的离子阱装置,其特征在于,所述离子阱装置包括:
电压产生单元,其将规定的电压分别施加到所述3个以上的电极;
控制单元,其控制所述电压产生单元所生成的电压,使得各种离子被捕捉到所述离子阱中的状态下,以下述顺序、下述顺序的相反顺序或同时实施下述离子排出操作:
为了除去不需要的离子,利用使离子在第一方向上振动的使用了规定的单一频率的激发电压的共振激发来排出一部分离子的离子排出操作,其中,所述不需要的离子是具有低于作为选择对象的特定的质荷比或特定的质荷比范围的质荷比的离子;
为了除去不需要的离子,利用使离子在与所述第一方向不同的第二方向上振动的使用了规定的单一频率的激发电压的共振激发来排出一部分离子的离子排出操作,其中,所述不需要的离子是具有高于作为选择对象的特定的质荷比或特定的质荷比范围的质荷比的离子。
4.如权利要求3所述的离子阱装置,其特征在于,
所述控制单元控制所述电压产生单元所生成的电压,以实行粗分离,再对于进行了基于该粗分离的离子选择的状态的离子,以高于所述粗分离的分离能力,除去质荷比低于作为选择对象的特定的质荷比和特定的质荷比范围的离子,并以高于所述粗分离的分离能力,除去质荷比高于作为选择对象的特定的质荷比和特定的质荷比范围的离子,
其中,所述粗分离将包含作为选择对象的特定的质荷比和特定的质荷比范围的宽的质荷比范围的离子选择性地留在离子阱内,除去除此以外的不需要的离子。
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