[发明专利]使用还原剂制备无水卤化氢无效
| 申请号： | 201380046923.4 | 申请日： | 2013-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN104619633A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 格雷戈里奥·塔兰孔三世 | 申请（专利权）人： | 中西无机物有限责任公司 |
| 主分类号： | C01B7/19 | 分类号： | C01B7/19 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 高瑜;郑霞 |
| 地址： | 美国佐*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 还原剂 制备 无水 卤化 | ||
1.一种用于合成无水卤化氢和至少一种非卤素无机物质的方法，所述方法包括：将一种或多种无机卤化物与至少一种还原剂完全反应以产生无水卤化氢以及至少一种非卤素无机物质。
2.如权利要求1所述的方法，其中所述至少一种还原剂包含分子氢、无机氢化物、以及无机金属元素中的至少一种。
3.如权利要求1所述的方法，其中所述至少一种还原剂包含一种无机氢化物，所述无机氢化物具有一种与所述无机卤化物的非卤素无机物质相同的非氢无机物质。
4.如权利要求1所述的方法，其中所述至少一种还原剂包含分子氢和一种无机金属元素。
5.如权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种无机卤化物包含一种无机氟化物。
6.如权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种无机卤化物包含以下项中的至少一种：无机氯化物、无机溴化物以及无机碘化物。
7.如权利要求1所述的方法，其中所述至少一种还原剂包含分子氢并且一个反应区温度是在使用下式确定的温度的15％之内：
TRZ＝[Ee+EH][Tm+Tb]/[ψxEe+Ex]
其中所述TRZ是所述反应区的温度；
Tm是所述无机卤化物的非卤素无机物质的以开尔文计的熔点；
Tb是所述无机卤化物的非卤素无机物质的以开尔文计的沸点；
Ee是所述无机卤化物的非卤素无机物质的PES；
EH是氢的PES；
Ex是所述无机卤化物中的卤素的PES；并且
Ψx是选自由下式确定的范围的一个值：
Σ＝Ψx+Ex
其中6.10≤Σ≤6.25。
8.如权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种无机卤化物包括六氟化硫并且所述至少一种非卤素无机物质包括元素硫。
9.如权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种无机卤化物包括三氟化氮并且所述至少一种非卤素无机物质包括氮。
10.如权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种无机卤化物包括六氟化钨并且所述至少一种非卤素无机物质包括元素钨。
11.如权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种无机卤化物包括六氟化铀并且所述至少一种非卤素无机物质包括元素铀。
12.一种用于合成无水氟化氢和至少一种非卤素无机物质的方法，所述方法包括：将一种或多种无机氟化物与一种或多种还原剂反应以产生无水氟化氢以及至少一种非卤素无机物质。
13.如权利要求12所述的方法，其中所述一种或多种还原剂包括分子氢、无机氢化物、以及无机金属元素中的至少一种。
14.如权利要求12所述的方法，其中所述一种或多种还原剂包括分子氢和元素钙。
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