[发明专利]处理液供给装置及方法、处理液及基板处理装置及方法

权利要求书

1.一种处理液供给装置，用于从喷出口喷出处理液，来将该处理液供给至处理对象物，其特征在于，包括：

第一管，能够使处理液在内部流动，该第一管的内部与所述喷出口相连通；

X射线照射单元，用于向在所述第一管内存在的处理液照射X射线；

在所述第一管的管壁上具有开口，

所述开口被窗构件堵塞，所述窗构件由能够使X射线透过的材料形成，

所述X射线照射单元，经由所述窗构件向在所述第一管内存在的处理液照射X射线。

2.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，所述窗构件由铍或聚酰亚胺树脂形成。

3.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，在所述窗构件的存在处理液的一侧的壁面，形成有保护膜。

4.如权利要求3所述的处理液供给装置，其特征在于，所述保护膜是含有聚酰亚胺树脂、类金刚石碳、氟类树脂及烃类树脂中的一种以上材料的保护膜。

5.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，所述X射线照射单元包括X射线发生器，所述X射线发生器用于发生X射线，并具有与所述窗构件相向配置的照射窗，从所述照射窗照射所发生的X射线。

6.如权利要求5所述的处理液供给装置，其特征在于，所述X射线照射单元还包括：

罩体，以与所述X射线发生器相隔开的方式包围该X射线发生器的周围；

气体供给单元，用于向所述罩体的内部供给气体。

7.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，

所述第一管包括处理液管，在所述处理液管的内部，处理液向所述喷出口流动，

所述X射线照射单元向在所述第一管内流动的处理液照射所述X射线。

8.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，

所述处理液供给装置还包括处理液管，在所述处理液管的内部，处理液向所述喷出口流动，

所述第一管包括从所述处理液管分支而成的分支管。

9.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括配置在所述喷出口的纤维状物质，从该喷出口喷出的处理液沿着该纤维状物质流动。

10.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括：

电极，配置在所述第一管上的比所述X射线的照射位置更靠处理液流动方向上的下游侧的位置；

电源，用于对所述电极施加电压。

11.如权利要求10所述的处理液供给装置，其特征在于，所述电极配置在所述第一管的前端部。

12.如权利要求1所述的处理液供给装置，其特征在于，还包括：

处理液检测单元，用于检测在所述第一管的所述X射线的照射位置是否存在处理液；

X射线照射控制单元，在所述照射位置存在处理液时，使所述X射线照射单元照射X射线，在所述照射位置不存在处理液时，使所述X射线照射单元不照射X射线。

13.一种基板处理装置，其特征在于，

包括：

基板保持单元，用于保持基板，

权利要求1～7、9～12中任一项所述的处理液供给装置；

从所述喷出口喷出的处理液供给至所述基板的主面。