[发明专利]含氧化铈废磨料的再生方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种含氧化铈废磨料的再生方法。更具体地，本发明所涉及的含氧化铈废磨料的再生方法，可有效地去除含氧化铈废磨料中所包含的杂质，而且能够确保再生工艺的稳定性，使含氧化铈废磨料适当地再生。

背景技术

当今社会是高度信息化的社会，我们每天会接触到很多信息，作为传递这些信息的媒体，显示器的作用可谓巨大。在PDP、LCD或OLED等显示元件中无碱玻璃基板是必不可少的。这种显示器用玻璃基板的制造方法分为Fusion法和Floating法，Fusion法是垂直滴落玻璃液使其冷却成形的方法，而Floating法是水平玻璃液推出使其如钢铁产品一样成形的方法。通常，采用Floating法的生产方式具有初始投入费用少且能够生产大型玻璃基板的优点，但是由于在成形工艺玻璃与锡液接触，所生产的玻璃基板其表面成为平坦度或粗糙度等不良的状态，因而难以将母玻璃直接用作电视显像管或液晶面板用玻璃基板。

尤其，对于用作液晶面板的TFT-LCD用玻璃面板，正在研究各种方法以改善产品的亮度、视角、对比度等，已知这些特性也会受到TFT-LCD用玻璃基板表面的很大影响。因此，通过Floating法生产玻璃基板的厂家为了改善玻璃基板的表面而进行抛光工艺，而且使用各种玻璃基板磨料。其中，作为普通磨料广泛使用含氧化铈(CeO₂)的磨料。

然而，这种含氧化铈磨料经过一定时间的玻璃抛光工艺之后，因抛光效率降低被废弃而成为废浆料，为此正在研究再利用所述磨料的几种技术。

不过，对于已知的含氧化铈磨料的再利用及再生方法，为了从废浆料去除在抛光工艺对玻璃基板进行抛光的过程中产生的氧化硅等杂质，主要采用的方法是将NaOH、NH₄OH等碱性物质用作溶剂或者使用包含氢氟酸的溶剂溶液。但是，将碱性物质用作溶剂时，不能彻底去除包含在废浆料中的氧化硅成分。另外，氢氟酸在常温下以液体状态存在，是一种对人体具有很大毒性的发烟性、酸性及腐蚀性物质。因此，这种使用氢氟酸的方法也存在工艺稳定性降低，需要用于抑制发烟的设备及条件，因而整个工艺的经济性和效率降低的问题。

因此，不断要求开发出一种不使用所述氢氟酸等也能有效、彻底地去除包含在废磨料中的杂质，适当地再生及再利用废磨料的工艺。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，不使用氢氟酸也能有效、彻底地去除包含在含氧化铈废磨料中的杂质，而且能够确保再生工艺的稳定性，使含氧化铈废磨料适当地再生。

本发明提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈(CeO₂)废浆料溶解于溶剂溶液，所述溶剂溶液包含(a)NaHF₂、(NH₄)HF₂或KHF₂等氟类化合物或者包含(b)NaF、(NH₄)F或KF等氟化盐和非氢氟酸类酸的混合物；对所述含氧化铈废浆料进行清洗，以去除溶解在溶剂溶液中的含氧化硅(SiO₂)杂质；以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行再分散及过滤或者干燥及烧结。

下面，详细描述根据本发明实施例的含氧化铈废磨料的再生方法。

本发明一实施例提供一种含氧化铈废磨料的再生方法，包括以下步骤：将含氧化铈(CeO₂)废浆料溶解于溶剂溶液，所述溶剂溶液包含(a)NaHF₂、(NH₄)HF₂或KHF₂等氟类化合物或者包含(b)NaF、(NH₄)F或KF的氟化盐和非氢氟酸类酸的混合物；对所述含氧化铈废浆料进行清洗，以去除溶解在溶剂溶液中的含氧化硅(SiO₂)杂质；以及对所述清洗过的含氧化铈废浆料进行再分散及过滤或者干燥及烧结。

在一实施例的含氧化铈废磨料的再生方法中，将源自废磨料的含氧化铈废浆料溶解于规定的溶剂溶液，以溶解掉源自玻璃基板等的杂质，并通过清洗去除这些杂质之后，经再分散及过滤能够以浆料状态再生为含氧化铈磨料(即，可生成浆料状态的再生磨料)，或者经干燥及烧结能够以磨料颗粒(粉末)状态再生为含氧化铈磨料(即，可生成粉末状态的再生磨料)。