[发明专利]在两个方向上是远心的光刻照射器

权利要求书

1.一种光刻设备照射器，包括：

-光束的光源(1’)，

-聚光器(5)，

-光均化系统(4)，包括至少一个微透镜阵列(L3、L4)，位于所述聚光器的上游，使得所述光均化系统的像方焦面位于所述聚光器(5)的物方焦面，

-快门(3)，位于所述光均化系统(4)的物方焦面，并且

所述照射器的特征在于，所述光均化系统(4)包括两个微透镜阵列(L3、L4)，其中所述两个微透镜阵列的间隔，以及微透镜的布置和取向，适应于使得所述光均化系统(4)沿着正交于光轴的两个方向(X、Y)，具有合并的像方焦面和合并的物方焦面，

其中每个微透镜阵列(L3、L4)是包括两个互相面对的面的板，并且相对于光束的传播方向的第一微透镜阵列(L3)包括蚀刻在其每个面上的圆柱体微透镜，一个面的透镜圆柱体的轴正交于另一面的透镜圆柱体的轴，并且正交于光轴。

2.根据权利要求1所述的照射器，其中正交于光轴的两个方向(X、Y)互相正交。

3.根据前述权利要求的其中之一所述的照射器，其中微透镜阵列(L3、L4)之间的间隔，以及微透镜的布置和取向适应于，使得所述光均化系统在正交于光轴的第一方向(Y)，起到位于第一阵列(L3)的第一面(310)的聚光透镜(31)的作用，所述快门的平面在所述透镜的物方焦面，并且所述聚光器的物方焦面在所述透镜的像方焦面。

4.根据权利要求3所述的照射器，其中所述聚光透镜(31)在第一阵列(L3)的第一面(310)上由圆柱体微透镜形成，所述圆柱体的轴沿着正交于光轴，并且正交于所述第一方向(Y)的第二方向(X)延伸。

5.根据权利要求1或2所述的照射器，其中微透镜阵列(L3、L4)之间的间隔，以及微透镜的布置和取向适应于，使得所述光均化系统在正交于光轴并且正交于第一方向(Y)的第二方向(X)具有这样的系统的作用，所述系统包括：

-聚光透镜(32)，其在第一阵列(L3)的第二面(320)，以及

-发散透镜(41)，其在第二阵列(L4)的第一面(410)，使得所述快门(3)的平面在聚光透镜的物方焦面，并且所述聚光器的物方焦面在所述系统的像方焦面。

6.根据权利要求5所述的照射器，其中在第一阵列(L3)的第二面(320)上的聚光透镜(32)在一方面由圆柱体微透镜形成，并且发散透镜(41)在另一方面也由圆柱体微透镜形成，其中圆柱体的轴沿着正交于光轴的第一方向(Y)延伸。

7.根据权利要求1或2所述的照射器，进一步包括光圈网络(8)，其位于所述光均化系统(4)的像方焦面。

8.根据权利要求7所述的照射器，其中所述光圈网络(8)的每个光圈放置为面向所述光均化系统(4)的第二微透镜阵列(L4)的微透镜。

9.一种光刻设备，包括掩膜(7)和根据前述权利要求的其中之一所述的照射器，其中所述照射器的快门(3)位于聚光器(5)的像方焦面的共轭面。