[发明专利]制备含有活性吸气剂的真空绝缘玻璃(VIG)窗单元的方法

权利要求书

1.一种制备真空绝缘玻璃VIG窗单元的方法，所述方法包括：

配置平行的第一和第二玻璃基片，将多个隔离片和密封配置在所述第一和第二基片之间，并将位于所述玻璃基片之间的腔排空至低于大气压的压力，且吸气剂由所述第一基片支撑；以及

引导激光束穿过由所述第二基片支撑的泵出管，从而所述激光束冲击所述吸气剂并激活所述吸气剂。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述引导激光束穿过所述泵出管来激活所述吸气剂，是在所述腔被排空至低于大气压的压力的排空过程期间和/或结束时被执行。

3.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述引导激光束穿过所述泵出管来激活所述吸气剂，至少在所述腔被排空至低于大气压的压力的排空过程期间被执行。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述引导激光束穿过所述泵出管来激活所述吸气剂，至少在所述腔被排空至低于大气压的压力的排空过程结束时被执行。

5.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述引导激光束穿过所述泵出管来激活所述吸气剂被执行，从而所述吸气剂不超过排空过程期间所述腔中的压力下降至或低于1x10^-2至1x10^-3毫巴之前其开始吸收时的温度。

6.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述引导激光束穿过所述泵出管来激活所述吸气剂，仅在排空过程使所述腔中的压力达到小于或等于1x10^-3毫巴之后被执行。

7.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述吸气剂位于定义在所述第一基片中的凹槽中。

8.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，从所述VIG单元的横截面观察时，所述吸气剂直接位于所述泵出管下面。

9.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述吸气剂包含钡。

10.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述吸气剂包含非蒸发性吸气材料。

11.如上述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述VIG窗单元具有至少50％的可见光透射率。

12.一种制备真空绝缘玻璃VIG窗单元的方法，所述方法包括：

配置平行的第一和第二玻璃基片，将多个隔离片和密封配置在所述第一和第二基片之间，并将位于所述玻璃基片之间的腔排空至低于大气压的压力，并在所述腔中配置至少一个吸气剂；以及

在所述腔被排空至低于大气压的压力的排空过程期间和/或结束时，激活所述吸气剂。

13.如权利要求12所述的方法，其中，所述激活所述吸气剂，至少在所述腔被排空至低于大气压的压力的排空过程期间被执行。

14.如权利要求12所述的方法，其中，所述激活所述吸气剂，至少在所述腔被排空至低于大气压的压力的排空过程结束时被执行。

15.如权利要求12-14中任何一项所述的方法，其中，所述激活，包括引导激光束穿过由所述第二基片支撑的泵出管，从而所述激光束冲击所述吸气剂并激活所述吸气剂，且所述吸气剂由所述第一基片支撑。

16.如权利要求12-15中任何一项所述的方法，其中，所述激活，包括引导激光束至所述吸气剂，来至少帮助激活所述吸气剂。

17.如权利要求12-14中任何一项所述的方法，其中，所述激活，包括从微波源向所述吸气剂发出微波辐射，来至少帮助激活所述吸气剂。

18.如权利要求12-14中任何一项所述的方法，其中，所述激活，包括从至少一个线圈向所述吸气剂发出射频辐射，来至少帮助激活所述吸气剂。

19.如权利要求12-18中任何一项所述的方法，其中，所述激活被执行，从而所述吸气剂不超过排空过程期间所述腔中的压力下降至或低于1x10^-2至1x10^-3毫巴之前其开始吸收时的温度。

20.如权利要求12-19中任何一项所述的方法，其中，所述激活，仅在排空过程使所述腔中的压力达到小于或等于1x10^-3毫巴之后被执行。