[发明专利]透镜驱动装置以及方法有效
申请号: | 201380050736.3 | 申请日: | 2013-08-26 |
公开(公告)号: | CN104685398A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 下津臣一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02B7/04 | 分类号: | G02B7/04;G02B7/08;H02P25/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 樊建中 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 驱动 装置 以及 方法 | ||
1.一种透镜驱动装置,其特征在于,具备:
透镜框,其保持透镜并能够在光轴方向移动;
音圈电动机,其具有在所述光轴方向延伸的磁铁、和配置在所述磁铁的磁场内并且被安装在所述透镜框的线圈,通过在所述线圈流过电流而产生的电磁力,使得所述线圈与所述透镜框一体地在所述光轴方向移动;
位置检测部,其检测所述光轴方向上的所述线圈相对于所述磁铁的线圈位置;
第1存储表,其按每个所述线圈位置来存储对所述光轴方向上的所述磁铁的磁通密度分布中的降低部分进行补偿的第1修正系数;和
控制部,其利用与由所述位置检测部检测出的所述线圈位置对应地从所述第1存储表读取出的所述第1修正系数,来控制流过所述线圈的电流。
2.根据权利要求1所述的透镜驱动装置,其中,
所述透镜驱动装置具备:
温度测定部,其测定所述磁铁的周边的温度;和
第2存储表,其按每个所述温度来存储对随着所述温度的变化而变化的所述磁通密度分布中的降低部分进行补偿的第2修正系数,
所述控制部利用与通过所述温度测定部来测定出的所述温度对应地从所述第2存储表读取出的所述第2修正系数,对流过所述线圈的电流进行控制。
3.根据权利要求1所述的透镜驱动装置,其中,
所述透镜驱动装置具备:
经过时间测量部,其测量经过时间;和
第3存储表,其按每个所述经过时间来存储对随着时间的经过而变化的所述磁通密度分布中的降低部分进行补偿的第3修正系数,
所述控制部利用与由所述经过时间测量部测量出的所述经过时间对应地从所述第3存储表读取出的所述第3修正系数,来控制流过所述线圈的电流。
4.根据权利要求1所述的透镜驱动装置,其中,
所述透镜驱动装置具备:
初始磁通密度存储部,其将所述磁铁的基准位置处的磁通密度存储为初始磁通密度;
磁通密度测定部,其测定所述磁铁的所述基准位置处的磁通密度;
磁通密度比率计算部,其求出作为所述初始磁通密度与由所述磁通密度测定部测定出的测定磁通密度的比率的磁通密度比率;和
系数修正部,其利用所述磁通密度比率,按每个所述线圈位置对存储在所述第1存储表中的所述第1修正系数进行修正。
5.根据权利要求4所述的透镜驱动装置,其中,
所述磁通密度测定部通过电源接通来测定所述测定磁通密度。
6.根据权利要求4所述的透镜驱动装置,其中,
所述磁通密度测定部每经过一定时间,测定所述测定磁通密度,
所述透镜驱动装置具备:第1更新部,其利用通过所述磁通密度比率而被修正的新的所述第1修正系数,按每个所述线圈位置来更新所述第1存储表。
7.根据权利要求1所述的透镜驱动装置,其中,
所述透镜驱动装置具备:
基准速度存储部,其按照将所述线圈的移动范围分割为多个的每个区间,存储所述线圈中流过一定电流时的线圈的基准移动速度;
移动时间测量部,在所述线圈流过电流从而使其在所述移动范围往复,按每个所述区间来测量所述线圈的移动时间;
移动速度计算部,其根据所述区间的长度以及所述移动时间,按每个所述区间来求出作为所述线圈的移动速度的计算移动速度;
速度比率计算部,其按每个所述区间求出作为所述基准移动速度以及来自所述移动速度计算部的移动速度的比率的速度比率;和
第5存储表,其按每个所述区间来存储所述速度比率,
所述控制部利用所述第1修正系数来控制流过所述线圈的电流,其中,所述第1修正系数是与通过所述位置检测部检测出的线圈位置对应地从所述第1存储表读取出、并利用与包含所述线圈位置的所述区间对应地从所述第5存储表读取出的速度比率进行了修正的第1修正系数。
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