[发明专利]流体产品的喷雾头和包括这类喷雾头的分配器

说明书

技术领域

本发明涉及一种流体产品喷雾头，所述流体产品喷雾头包括限定一分配轴线的喷雾孔、位于喷雾孔上游的涡流室和涡流通道，所述涡流室通过内部壁体界定，所述涡流通道分别地限定通道出口，所述通道出口横向于分配轴线在内部壁体处通到涡流室中，以在涡流室内部产生涡流，每个涡流通道限定一喷射轴线，所述喷射轴线自通道出口延伸到涡流室中。这类喷雾头可例如呈借助于手的一个或数个手指可致动的按钮的形式。本发明的优选应用领域是香水领域、美容品领域或药剂品领域，也不排除其它领域。

背景技术

在现有技术中，已知专利文献FR-2399282，该专利文献描述了一种常见的喷雾头，所述喷雾头包括分配孔、涡流室和涡流通道，所述涡流通道切向地和横向地通到涡流室中。常见地，涡流通道在一平面中延伸，所述平面垂直于由喷雾孔限定的分配轴线。因此，来自涡流通道的流体产品流沿着涡流室的底部壁进入涡流室中。此外，由于涡流切向地通到涡流室中，所述涡流还沿着涡流室的圆柱形侧壁。因此，流体产品流同时地沿着涡流室的底部壁和侧壁，从而产生显著的压头损失。还会产生多余的和不受控的流动现象。

该专利文献FR-2 399 282还描述了另一实施方式，在其中，涡流通道在截锥形表面中形成且切向地通到涡流室的底部壁中，涡流室限定截锥形侧壁，侧壁的开口的顶部形成喷雾孔。更为确切地说，形成喷雾孔和截锥形壁体的喷嘴围绕形成底部壁和截锥形表面的一柱销接合，在该柱销中形成涡流通道。因此，来自涡流通道的流体产品流朝向喷雾孔沿着涡流室的截锥形壁体进入涡流室中。甚而，涡流沿着涡流室的截锥形内壁的事实产生显著的压头损失和多余的不受控的流动现象。

在专利文献FR-2 399 282的这两个实施方式中，雾化室成为较大的压头损失和产生射流现象的原因，较大的压头损失和产生射流现象有损于经过喷雾孔的喷雾的良好质量。

发明内容

本发明的目的在于消除在配有涡流室和涡流通道的大部分分配头中所存在的现有技术的前述弊端。

为此，本发明提出：涡流通道的喷射轴线Y同时远离都邻近通道出口底部壁和周沿侧壁，以既不沿着底部壁也不沿着周沿侧壁穿过涡流室。

通过这种方式，来自涡流通道的出口的流体产品流不再易受沿着涡流室的内壁的多余的层流现象。流体产品的涡流从而会产生，而不被涡流室的内壁明显地干扰。换句话说，涡流主要地远离涡流室的内壁产生。在涡流室处的压头损失从而被显著减小，这允许使用具有缩小截面的涡流通道。实际上，由具有缩小截面的涡流通道已产生的压头损失仅仅是在本发明的涡流室处略微增大。另一方面，需要注意到，通道出口在这样的位置通到涡流室中，在所述位置底部壁连接到周沿侧壁。因此，来自涡流通道的出口的流体产品流以相对于侧壁和底部壁基本上对称的方式进入涡流室中，这显著减少多余的紊流。

根据本发明的一有利特征，底部壁是大致平坦的，通道出口在底部壁处通到涡流室中。

根据本发明的另一有利特征，涡流室包括前壁，在前壁中形成喷雾孔，喷射轴线朝向该前壁。

还根据本发明的另一方面，周沿侧壁是大致圆柱形的。底部壁和前壁可以是平行的且平坦的。作为变型，与前壁相同，底部壁可以是凹形的或凸形的。周沿侧壁可以是略微截锥形的。

根据本发明的一重要方面，涡流通道的喷射轴线有利地以相对于底部壁和相对于侧壁大约45°的角度相对于底部壁和侧壁横向地延伸。这意味着，来自通道的喷射轴线同时远离底部壁和侧壁和有利地以完全对称的方式延伸到涡流室中。

根据本发明的另一有利特征，涡流通道在一截锥形壁体中形成，所述截锥形壁体具有与分配轴线重合的回转轴线。通过这种方式，涡流通道可以通到涡流室中，同时地相对于底部壁和相对于侧壁具有倾斜的定向，所述底部壁有利地垂直于分配轴线，所述侧壁有利地是圆柱形的。涡流通道的出口有利地在底部壁中以直接邻近圆柱形侧壁的方式形成。借助于源自截锥形壁体的倾斜布置，流体产品流进入涡流室中，朝形成喷雾孔的前壁的方向同时地远离底部壁和侧壁。

根据一实际的实施方式，喷雾头包括喷雾头主体和喷嘴，喷雾头主体形成限定底部壁和截锥形壁体的柱销，喷嘴围绕柱销接合，在所述喷嘴和所述柱销之间限定涡流室和涡流通道，喷嘴限定前壁和侧壁以及截锥形区域，所述截锥形区域与柱销的截锥形壁体密封接触，以形成涡流通道，喷嘴有利地具有围绕分配轴线的回转对称性。

根据本发明的另一有利方面，通道出口非切向地通到涡流室中。通过这种方式，还进一步避免来自涡流通道的出口的流体产品流沿着涡流室的侧壁流动。